[发明专利]显示装置、显示用基板及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011193932.4 申请日: 2020-10-30
公开(公告)号: CN112310324A 公开(公告)日: 2021-02-02
发明(设计)人: 郝艳军;屈财玉;周辉;杜小波;李彦松 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/56;H01L27/32
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 显示装置 显示 用基板 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种显示用基板,其特征在于,包括:

衬底;

设置在所述衬底上的多个子像素,所述多个子像素包括:发光颜色不同的第一子像素、第二子像素以及第三子像素,每个所述子像素包括透明的第一电极和位于所述第一电极远离所述衬底一侧的第二电极;

其中,所述第一子像素还包括:位于所述衬底和所述第一电极之间的第一反射层,位于所述第一反射层和所述第一电极之间的第一绝缘层,位于所述第一电极和所述第二电极之间的第一缓冲图案和第一发光图案;

所述第二子像素还包括:位于所述衬底和所述第一电极之间的第二反射层,位于所述第一电极和所述第二电极之间的第二缓冲图案和第二发光图案;

所述第三子像素还包括:位于所述衬底和所述第一电极之间的第三反射层,位于所述第一电极和所述第二电极之间的第三缓冲图案和第三发光图案。

2.根据权利要求1所述的显示用基板,其特征在于,所述第二子像素还包括:位于所述第二反射层和所述第一电极之间的第二绝缘层;

和/或,

所述第三子像素还包括:位于所述第三反射层和所述第一电极之间的第三绝缘层。

3.根据权利要求2所述的显示用基板,其特征在于,在所述第二子像素包括所述第二绝缘层,且所述第三子像素包括所述第三绝缘层的情况下,所述第一绝缘层、所述第二绝缘层和所述第三绝缘层的厚度相同。

4.根据权利要求3所述的显示用基板,其特征在于,所述第一反射层、所述第二反射层和所述第三反射层属于同一层;

所述第一绝缘层、所述第二绝缘层和所述第三绝缘层属于同一层,且所述第一绝缘层、所述第二绝缘层和所述第三绝缘层相连接。

5.根据权利要求2所述的显示用基板,其特征在于,在所述第二子像素包括所述第二绝缘层,且所述第三子像素包括所述第三绝缘层的情况下,

所述第一绝缘层的厚度大于所述第二绝缘层的厚度,所述第二绝缘层的厚度大于所述第三绝缘层的厚度。

6.根据权利要求5所述的显示用基板,其特征在于,所述第一绝缘层包括:沿远离所述衬底的方向依次层叠设置的第一绝缘子层、第二绝缘子层和第三绝缘子层;

所述第二绝缘层包括:沿远离所述衬底的方向依次层叠设置的第四绝缘子层和第五绝缘子层;

其中,所述第三绝缘子层、所述第五绝缘子层和所述第三绝缘层属于同一层,且所述第三绝缘子层、所述第五绝缘子层和所述第三绝缘层相连接;

所述第二绝缘子层和所述第四绝缘子层属于同一层,且所述第二绝缘子层和所述第四绝缘子层相连接。

7.根据权利要求1所述的显示用基板,其特征在于,所述第一缓冲图案靠近所述第一发光图案的表面与所述第一发光图案靠近所述第一缓冲图案的表面接触且二者在所述衬底上的投影完全重叠;

所述第二缓冲图案靠近所述第二发光图案的表面与所述第二发光图案靠近所述第二缓冲图案的表面接触且二者在所述衬底上的投影完全重叠;

所述第三缓冲图案靠近所述第三发光图案的表面与所述第三发光图案靠近所述第三缓冲图案的表面接触且二者在所述衬底上的投影完全重叠。

8.一种显示用基板的制备方法,其特征在于,包括:

在衬底上设置多个子像素,所述多个子像素包括:发光颜色不同的第一子像素、第二子像素以及第三子像素,每个子像素包括透明的第一电极和位于所述第一电极远离所述衬底一侧的第二电极;

其中,所述第一子像素还包括:位于所述衬底和所述第一电极之间的第一反射层,位于所述第一反射层和所述第一电极之间的第一绝缘层,位于所述第一电极和所述第二电极之间的第一缓冲图案和第一发光图案;

所述第二子像素还包括:位于所述衬底和所述第一电极之间的第二反射层,位于所述第一电极和所述第二电极之间的第二缓冲图案和第二发光图案;

所述第三子像素还包括:位于所述衬底和所述第一电极之间的第三反射层,位于所述第一电极和所述第二电极之间的第三缓冲图案和第三发光图案。

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