[发明专利]一种带相位补偿层的VCSEL结构及制备方法在审
申请号: | 202011196037.8 | 申请日: | 2020-10-30 |
公开(公告)号: | CN112310804A | 公开(公告)日: | 2021-02-02 |
发明(设计)人: | 王智勇;代京京;李尉;兰天 | 申请(专利权)人: | 北京工业大学 |
主分类号: | H01S5/028 | 分类号: | H01S5/028;H01S5/183;H01S5/42;H01S5/00 |
代理公司: | 北京汇信合知识产权代理有限公司 11335 | 代理人: | 林聪源 |
地址: | 100124 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 相位 补偿 vcsel 结构 制备 方法 | ||
本发明公开了一种带相位补偿层的VCSEL结构及制备方法,该激光器将周期分布的激光器产生的光场,经Talbot外腔和相位补偿单元,对同相模和反相模进行相位补偿,得到同相位输出的激光束。在二维二极管激光阵列的发光面设有Talbot激光外腔,Talbot激光外腔的输出端设有相位补偿膜;Talbot激光外腔的厚度d为:式中,ZT为Talbot距离,N为正整数;相位补偿膜相对应Talbot激光外腔输出端同相模的位置处设有沟槽结构。本发明通过相位补偿膜的沟槽结构使相对相位增加π/4,最终相位与二维二极管激光阵列中初始相位为0的二极管激光器输出相位相同。本发明能够对反相模进行相位补偿,得到同相位输出光束,且工艺过程简单,易于制作。
技术领域
本发明涉及激光器技术领域,具体涉及一种带相位补偿层的VCSEL结构及制备方法。
背景技术
垂直腔面发射激光器(VESCL)是一种半导体激光器,其激光垂直于顶面射出。与传统的边发射半导体激光器相比,垂直腔面发射激光器具有光束质量好、阈值电流低、单纵模工作、易于二维列阵集成和制造成本低廉等优点,引起了人们的广泛关注。其在固体激光泵浦、医疗、光通讯等领域有着巨大的应用市场。
对于m个位置接近、光强相同的激光束,其在远场的相干重叠后得到的光强越大越好。若上述激光束为一维分布且互不相干,则其在远场的叠加光强是单激光束光强的m倍。若上述激光束相互相干,则其在远场的叠加光强为单激光束光强的m2倍,激光器的输出可以大大增强;因此,设计激光相干的VCSEL以及其外腔结构等具有一定意义。
现有技术中,实现二极管激光器阵列的同相模输出有许多方法,例如:使用模式选择镜、利用偏转外腔等设计均可实现模式的选择,选择出同相模、输出得到同相位的相干光。虽然上述都有相应的优点,但其均会抑制反相模的输出,或者使反相模的损耗变得非常大,这会对输出光强造成一定的影响。
发明内容
针对现有技术中存在的上述问题,本发明提供一种带相位补偿层的VCSEL结构及制备方法,具有输出同相光、光强损耗小的特点。
本发明公开了一种带相位补偿层的VCSEL结构,包括顶发射VCSEL阵列;
所述顶发射VCSEL阵列的顶部设有Talbot激光外腔,所述Talbot激光外腔的输出端设有相位补偿膜;
所述Talbot激光外腔的厚度d为:
式中,ZT为Talbot距离,N为正整数;
所述相位补偿膜相对应所述Talbot激光外腔输出端同相模的位置处设有沟槽结构,所述沟槽结构的深度a为:
式中,λ为激光波长,n0为所述相位补偿膜的折射率。
作为本发明的进一步改进,顶发射VCSEL阵列中单个光源排布方式为二维周期性排布。
作为本发明的进一步改进,所述Talbot激光外腔与所述二维二极管激光阵列之间设有键合层,所述Talbot激光外腔与所述相位补偿膜之间设有反射膜。
作为本发明的进一步改进,所述顶发射VCSEL阵列、键合层、Talbot激光外腔、反射膜和相位补偿膜平行设置;所述反射膜的反射率为50%-99%,所述键合层的厚度为
作为本发明的进一步改进,所述顶发射VCSEL阵列的背面设有散热片。
作为本发明的进一步改进,所述相位补偿膜为相位光栅或刻蚀微结构,所述相位补偿膜的沟槽结构朝向所述二维二极管激光阵列的发光面。
本发明还公开了一种上述VCSEL结构的制备方法,包括:
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