[发明专利]基板处理设备

权利要求书

1.一种基板处理设备，包括：

基板支撑单元；

位于所述基板支撑单元上的处理单元；和

排放单元，连接到位于所述基板支撑单元与所述处理单元之间的反应空间，

其中，所述反应空间中的第一气体通过第一通道排放到所述排放单元，

在所述基板支撑单元下方的下部空间中的第二气体通过第二通道排放到所述排放单元，且

所述第一通道与所述第二通道在所述排放单元下方彼此结合。

2.根据权利要求1所述的基板处理设备，其中，所述排放单元还包括：

分隔壁，限定所述反应空间的侧面；

平行于所述分隔壁的外壁；和

连接壁，其延伸以将所述分隔壁连接至所述外壁，

其中，所述第一通道与所述第二通道彼此结合的接合点在所述分隔壁下方。

3.根据权利要求1所述的基板处理设备，还包括：

围绕所述基板支撑单元的流动控制环，

其中所述反应空间中的第一气体通过所述流动控制环的第一表面排放到所述排放单元，

所述基板支撑单元下方的下部空间中的第二气体通过所述流动控制环的第二表面被排放到所述排放单元。

4.根据权利要求3所述的基板处理设备，

所述流动控制环在所述排放单元下方与所述排放单元的至少一部分重叠。

5.根据权利要求3所述的基板处理设备，还包括：

所述外环围绕所述流动控制环，

其中所述第一通道在所述排放单元和所述流动控制环之间，以及

所述第二通道在所述外环和所述流动控制环之间。

6.根据权利要求5所述的基板处理设备，还包括：

支撑件，被配置为支撑所述处理单元和所述排放单元；和

位于所述排放单元和所述支撑件之间的所述外环。

7.根据权利要求5所述的基板处理设备，其中，所述基板支撑单元被构造成能够竖直移动，以及

所述流动控制环被构造成根据所述基板支撑单元的竖直运动而上下运动。

8.根据权利要求5所述的基板处理设备，其中，邻近所述外环的接合点的拐角部分包括第一弯曲结构。

9.根据权利要求8所述的基板处理设备，其中，所述排放单元的拐角部分包括第二弯曲结构，以及

所述接合点在所述第一弯曲结构和所述第二弯曲结构之间。

10.根据权利要求5所述的基板处理设备，其中，所述流动控制环包括：

第一部分，与所述基板支撑单元的至少一部分重叠；和

第二部分，从所述第一部分沿着所述基板支撑单元的侧面延伸。

11.根据权利要求10所述的基板处理设备，其中，所述流动控制环还包括：

从第二部分延伸以与所述排放单元的至少一部分重叠的第三部分。

12.根据权利要求5所述的基板处理设备，其中，所述流动控制环包括：

第一部分，与所述外环的至少一部分重叠；和

第二部分，从所述第一部分沿着所述基板支撑单元的侧面延伸。

13.根据权利要求12所述的基板处理设备，其中，所述基板支撑单元被构造成能够竖直移动，以及

当所述基板支撑单元上下移动时，所述流动控制环通过所述基板支撑单元的推力相对于所述外环滑动。

14.根据权利要求12所述的基板处理设备，其中，所述流动控制环的第一部分包括不平坦结构，以及

所述第二通道根据所述不平坦结构形成在所述流动控制环的第一部分和所述外环之间。