[发明专利]一种二氧化硅刻蚀工艺方法在审
| 申请号： | 202011202119.9 | 申请日： | 2020-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN112429738A | 公开（公告）日： | 2021-03-02 |
| 发明（设计）人： | 吴晓林;刘红亮;殷鹏刚;陈华祥;刘彩艳 | 申请（专利权）人： | 山东联科科技股份有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/12 | 分类号： | C01B33/12;C25F3/02;B82Y40/00 |
| 代理公司： | 北京翔石知识产权代理事务所(普通合伙) 11816 | 代理人： | 李勇 |
| 地址： | 262514 山*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 二氧化硅 刻蚀 工艺 方法 | ||
1.一种二氧化硅刻蚀工艺方法，其特征在于：所述的刻蚀工艺方法以离子液体为媒介，对二氧化硅进行电解刻蚀，制备得到多孔二氧化硅。
2.根据权利要求1所述的刻蚀工艺方法，其特征在于：所述的刻蚀工艺方法具体包括以下步骤：
(1)将二氧化硅以及离子液体加入电解槽中；
(2)通入电流，进行电解操作；
(3)电解反应结束后，将生成的多孔二氧化硅产品进行洗涤、烘干，得到最终产品。
3.根据权利要求1或2所述的刻蚀工艺方法，其特征在于：所述二氧化硅的加入量为离子液体质量的10-40％。
4.根据权利要求1或2所述的刻蚀工艺方法，其特征在于：所述的离子液体为四氟硼酸盐水溶液或六氟磷酸盐水溶液。
5.根据权利要求4所述的刻蚀工艺方法，其特征在于：所述的离子液体为1-丁基-3-甲基咪唑四氟硼酸盐水溶液或1-丁基-3-甲基咪唑六氟磷酸盐水溶液。
6.根据权利要求1或2所述的刻蚀工艺方法，其特征在于：所述离子液体的浓度质量分数为1-2％。
7.根据权利要求1或2所述的刻蚀工艺方法，其特征在于：所述二氧化硅为粒状，目数为150-300目。
8.根据权利要求1或2所述的刻蚀工艺方法，其特征在于：所述步骤(2)中，电流密度为8-24mA/cm2,电解时间为4-6h。
9.根据权利要求1或2所述的刻蚀工艺方法，其特征在于：所述步骤(3)中，洗涤溶液为去离子水，烘干温度为100℃-120℃，烘干时间为2-3h。
10.一种抗菌过滤片的制备方法，包含如权利要求1-9任一项所述的多孔二氧化硅，其特征在于：所述制备方法包括以下步骤：
(1)首先将冰醋酸水溶液与壳聚糖混匀制备成壳聚糖-醋酸溶液，再将壳聚糖-醋酸溶液与3-缩水甘油醚三甲氧基硅烷混合搅拌后过夜，取多孔二氧化硅粉末加入过夜的溶液中，搅拌离心，再使用超纯水冲洗，得到壳聚糖-多孔二氧化硅复合材料；
(2)将步骤(1)中制备的壳聚糖-多孔二氧化硅复合材料加水配制浓度为100g/L溶液，与无纺布进行浸渍复合，将复合样品进行预烘、烘焙处理，再通过紫外光固化,制备得到抗菌过滤片。
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