[发明专利]一种等离子体包覆目标的近场电磁散射建模方法

权利要求书

1.一种等离子体包覆目标的近场电磁散射建模方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤1：近场发射天线发射入射射线，在等离子体包覆目标的表面进行多次射线投射，反射出多次反射射线和多次折射射线；

步骤2：根据所述入射射线、所述多次反射射线和所述多次折射射线，进行等离子体包覆目标的近场射线追踪计算，获得所述入射射线的入射边矢量、所述多次反射射线的反射边矢量和所述多次折射射线的折射边矢量；

步骤3：根据所述入射射线、所述多次反射射线和所述多次折射射线，进行等离子体包覆目标的近场场强追踪计算，获得等离子体包覆目标的电场信息；

步骤4：在四边形面元内对等离子体包覆目标进行近场积分计算，获得离子体包覆目标的散射电场贡献值，完成等离子体包覆目标的近场电磁散射建模；

所述等离子体包覆目标的电场信息包括：所述入射射线的入射场强、所述多次反射射线的反射场强、所述反射射线作为下一次入射射线的入射场强、所述多次折射射线的折射场强和电场传输衰减与相移量；

所述近场场强追踪计算包括以下步骤：步骤3.1：基于近场弹跳射线法，根据天线方向图、极化信息及所述入射射线相对几何关系，计算所述入射射线的入射场强；

步骤3.2：根据所述入射射线的入射场强和所述反射射线，进行反射射线场强计算，获得所述反射场强、所述反射射线作为下一次入射射线的入射场强；

步骤3.3：根据所述入射射线的入射场强和所述折射射线，进行折射场强计算，获得所述折射场强；

步骤3.4：根据近场条件的天线波束发散性，计算等离子体包覆目标中的所述电场传输衰减与相移量。

2.如权利要求1所述的等离子体包覆目标的近场电磁散射建模方法，其特征在于，所述射线投射包括以下步骤：

步骤1.1：近场发射天线向等离子体包覆目标的表面，发射所述入射射线；步骤1.2：所述入射射线在等离子体包覆目标的表面进行多次反射投射，生成所述多次反射射线；

步骤1.3：所述入射射线在等离子体包覆目标的表面进行多次折射投射，生成所述多次折射射线。

3.如权利要求2所述的等离子体包覆目标的近场电磁散射建模方法，其特征在于，发射所述入射射线还包括以下步骤：

步骤1.1.1：根据针孔相机原理，在近场发射天线处设置点光源；

步骤1.1.2：在所述点光源与等离子体包覆目标的中点位置处，设置虚拟孔径面，并对所述虚拟孔径面进行网格划分，获得所述虚拟孔径面的网格连线；

步骤1.1.3：所述点光源沿着所述网格连线，向等离子体包覆目标进行射线投射，发射出所述入射射线。

4.如权利要求1所述的等离子体包覆目标的近场电磁散射建模方法，其特征在于，所述近场射线追踪计算还包括以下步骤：

步骤2.1：根据所述入射射线，计算所述入射边矢量；

步骤2.2：根据所述入射边矢量进行反射边矢量计算，获得所述反射边矢量；

步骤2.3：根据所述反射边矢量，进行折射边矢量计算，获得所述折射边矢量。

5.如权利要求4所述的等离子体包覆目标的近场电磁散射建模方法，其特征在于，所述反射边矢量计算包括以下步骤：

步骤2.2.1：根据所述入射边矢量和反射射线进行反射边矢量计算，获得反射射线的反射边矢量；

步骤2.2.2：反射射线传播一段距离后再次与等离子体包覆目标相遇，计算出多次反射射线的反射边矢量。

6.如权利要求1所述的等离子体包覆目标的近场电磁散射建模方法，其特征在于，所述近场积分计算包括以下步骤：

步骤4.1：针对任意一个四边形面元，计算所述任意一个四边形面元的单位散射波矢；

步骤4.2：根据所述任意一个面元的单位散射波矢，计算等离子体包覆目标的表面的物理光学积分；

步骤4.3：根据所述任意一个面元的单位散射波矢，对等离子体包覆目标的分界面进行散射电场贡献计算，获得等离子体反射造成的散射电场贡献值。