[发明专利]UV光刻胶、UV光刻胶制备方法及透镜阵列制备方法

说明书

本发明公开了一种UV光刻胶、UV光刻胶制备方法及透镜阵列制备方法，UV光刻胶包括以下组分：丙烯酸树脂单体：40‑50重量份；烯酸树脂低聚物：40‑43重量份；第一光引发剂：3‑5重量份；第二光引发剂：1‑2重量份；添加剂：0.01‑1％重量份。本发明的UV光刻胶具有良好的物理、化学及光学性能，非常适合于以PET膜为承印基材。通过UV光刻胶制备方法可高效制得具有良好性能的UV光刻胶，非常适合于以PET膜为承印基材。通过透镜阵列制备方法获得的透镜阵列具有满足期望的均匀性、几何形貌、光学特性及耐磨性。

技术领域

本发明涉及光刻胶技术领域，更具体地说是一种UV光刻胶、UV光刻胶制备方法及透镜阵列制备方法。

背景技术

在众多的微透镜阵列的制造方法中，微纳压印作为一种典型的微纳加工技术，尽管只能通过改变压印模具来改变微透镜的几何尺寸，却可在低温低压环境下于PET等柔性基材上实现大面积的、大规模的微透镜阵列的稳定制造，因此被视为复制微纳结构和微透镜阵列的常用方法。制备原理具体为：UV光刻胶流入成膜机的精密光学模具表面的微结构凹槽中，通过前压轮挤压多余树脂排出凹槽，并使模具表面与PET膜紧密贴合，通过UV灯使凹槽中的树脂固化在PET膜表面，经过后压轮后与模具剥离，成型的微透镜阵列层牢牢附着在PET膜的表面，形成微透镜3D光学膜。

作为制备微透镜阵列的重要材料-UV光刻胶，通常情况下，是由感光树脂、表面活性剂、光敏剂三种主要成分组成的对光敏感的混合液体，应具有良好的分辨率、对比度、敏感度、黏度、黏附性和表面张力，以确保制备的微透镜阵列具有满足期望的均匀性、几何形貌、光学特性及耐磨性。然而，市场上现有的UV光刻胶的承印基材大多为硅片、玻璃、PDMS等，应用于模拟半导体、发光二极管、微机电系统、太阳能光伏、微流道与生物芯片、光电子/光子器件、封装等领域，其物理、化学及光学性能不太适合应用于PET基材上以进行大规模的微透镜阵列的制造。

发明内容

本发明的目的在于克服现有技术的不足，提供一种UV光刻胶、UV光刻胶制备方法及透镜阵列制备方法。

为实现上述目的，本发明采用以下技术方案：一种UV光刻胶，包括以下组分：

丙烯酸树脂单体：40-50重量份；

烯酸树脂低聚物：40-43重量份；

第一光引发剂：3-5重量份；

第二光引发剂：1-2重量份；

添加剂：0.01-1％重量份。

其进一步技术方案为：所述丙烯酸树脂单体为三羟甲基丙烷三丙烯酸酯。

其进一步技术方案为：所述丙烯酸树脂低聚物为1，6-己二醇二丙烯酸酯。

其进一步技术方案为：所述第一光引发剂为2-羟基-2-甲基-1-苯基-1-丙酮。

其进一步技术方案为：所述第二光引发剂为1-羟基环己基苯基甲酮。

其进一步技术方案为：所述添加剂为有机硅消泡剂以及有机硅流平剂的混合物。

其进一步技术方案为：所述UV光刻胶的密度为1.12-1.14g/cm³，黏度为220-280cps。

其进一步技术方案为：所述UV光刻胶的敏感度为350-500mj/cm²，折射率为1.5-1.6。

一种UV光刻胶制备方法，包括以下步骤：

将40-50重量份的丙烯酸树脂单体和40-43重量份的丙烯酸树脂低聚物混合在一起，以1000-1800转/分钟的搅拌速度搅拌15-30分钟，得到均匀的第一混合溶液；