[发明专利]溶剂组合物、清洗方法、涂膜的形成方法、热传递介质和热循环系统有效
申请号: | 202011204778.6 | 申请日: | 2016-04-20 |
公开(公告)号: | CN112300874B | 公开(公告)日: | 2021-07-30 |
发明(设计)人: | 中村允彦;光冈宏明;市野川真理;藤森厚史;冈本秀一 | 申请(专利权)人: | AGC株式会社 |
主分类号: | C11D7/50 | 分类号: | C11D7/50;C11D7/30;C11D7/60;B08B3/08;C09K5/10;C09D7/20 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人: | 刘多益;张佳鑫 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 溶剂 组合 清洗 方法 形成 传递 介质 循环系统 | ||
本发明提供对各种有机物的溶解性优良、清洗性优良且不对地球环境产生负面影响的稳定性优良并能抑制金属的腐蚀的溶剂组合物,使用了该溶剂组合物的清洗方法和涂膜的形成方法,含有该溶剂组合物的热传递介质以及使用了该热传递介质的热循环系统。即,含有HCFO‑1233yd和HCFC‑244ca的溶剂组合物,相对于HCFO‑1233yd的含量与HCFC‑244ca的含量的总计,HCFC‑244ca的含量的比例为0.0001~1质量%;使该溶剂组合物与被清洗物品接触的清洗方法;在该溶剂组合物中溶解不挥发性有机化合物以制造涂膜形成用组合物,在被涂布物上涂布了该涂膜形成用组合物后使溶剂组合物蒸发,形成由不挥发性有机化合物构成的涂膜的涂膜形成方法;含有该溶剂组合物的热传递介质以及使用了该热传递介质的热循环系统。
技术领域
本发明涉及对各种有机物的溶解性优良、清洗性优良且不对地球环境产生负面影响的稳定性优良并能抑制金属的腐蚀的溶剂组合物。具体而言,本发明的溶剂组合物可用于清洗用溶剂和稀释涂布溶剂、热传递介质等广范围的用途。
背景技术
IC、电子部件、精密机械部件、光学部件等的制造中,在制造工序、组装工序、最终精制工序等中,用清洗用溶剂清洗部件,将附着于该部件的焊剂、加工油、蜡、脱模剂、灰尘等除去。另外,作为具有含有润滑剂等各种有机化学物质的涂膜的物品的制造方法,已知有例如配制该有机化学物质溶解在稀释涂布溶剂中而得的溶液、将该溶液涂布于被涂布物上后使稀释涂布溶剂蒸发来形成涂膜的方法。要求稀释涂布溶剂能够充分溶解有机化学物质且具有充分的干燥性。
作为这种用途中使用的溶剂,从具有不燃性且毒性小、稳定性优良、不侵蚀金属、塑料、弹性体等基材且化学稳定性和热稳定性优良的角度考虑,使用了含有1,1,2-三氯-1,2,2-三氟乙烷等氯氟烃类(以下记为“CFC类”)、2,2-二氯-1,1,1-三氟乙烷、1,1-二氯-1-氟乙烷、3,3-二氯-1,1,1,2,2-五氟丙烷、1,3-二氯-1,1,2,2,3-五氟丙烷等氢氯氟烃类(以下记为“HCFC类”)等的氟类溶剂等。
但是,CFC类和HCFC类的化学性质极为稳定,因此气化后在对流层内的寿命长,扩散并达到平流层。因此,存在到达平流层的CFC类和HCFC类被紫外线分解、产生氯自由基而破坏臭氧层的问题。
另一方面,作为不具有氯原子且不对臭氧层产生负面影响的溶剂,已知有全氟烃类(以下记为“PFC类”)。另外,作为CFC类和HCFC类的替代溶剂,也开发了氢氟烃类(以下记为“HFC类”)、氢氟醚类(以下记为“HFE类”)等。但是,HFC类和PFC类的温室效应潜能值高,因此是京都议定书的限制对象物质。
作为替代HFC类、HFE类、PFC类的溶剂的新溶剂,提出了在碳原子-碳原子间具有双键的氟代烯烃。虽然这些氟代烯烃具有容易分解而在大气中的寿命短、臭氧消耗潜能值(日文:オゾン破壊係数)和温室效应潜能值低而对地球环境的影响小的优良性质,但是另一方面,由于容易分解而稳定性差,作为清洗用溶剂和稀释涂布溶剂使用的情况下,具有在使用中分解而导致酸性化的问题。
对此,在专利文献1、2中,公开了向含有1-氯-2,3,3-三氟-1-丙烯且在碳原子-碳原子间具有双键的各种各样的氟代烯烃中添加作为润滑剂、稳定剂、金属钝化剂、腐蚀抑制剂、火焰抑制剂以及调节组合物的特定性质的其他化合物和/或成分的追加成分的技术。
另外,在专利文献3的实施例中,记载了如果在气相下使1-氯-2,2,3,3-四氟丙烷与氟化氢反应,则在生成1,1,2,2,3-五氟丙烷的同时会生成微量的作为副产物的1-氯-2,3,3-三氟-1-丙烯。
但是,专利文献1~3中并无关于通过向1-氯-2,3,3-三氟-1-丙烯中添加微量的1-氯-2,2,3,3-丙烷来使1-氯-2,3,3-三氟-1-丙烯稳定化的技术的记载。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利特表2013-504658号公报
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于AGC株式会社,未经AGC株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011204778.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种水下清洗机器人
- 下一篇:一种应用数学教学管理系统