[发明专利]基于硫代磷酸酯后修饰反应的双波长光激活核酸体系及其应用

权利要求书

1.一种经修饰的核酸分子，其特征在于，所述经修饰的核酸分子的结构式为：

其中，所述R为光敏基团；

所述光敏基团选自以下式1或式2：

式1，式2。

2.根据权利要求1所述的经修饰的核酸分子，其特征在于，所述核酸分子选自功能性的DNA和/或RNA。

3.根据权利要求2所述的经修饰的核酸分子，其特征在于，所述功能性的DNA选自脱氧核酶、反义DNA、荧光原位杂交探针、核酸适配体、DNA折纸单元结构、引物、含PS修饰的基因组DNA、含PS修饰的质粒。

4.根据权利要求2所述的经修饰的核酸分子，其特征在于，所述功能性的RNA选自CRISPR基因编辑体系的向导RNA、小分子干扰RNA、反义RNA、核酶、信使RNA、转运RNA、核糖体RNA。

5.根据权利要求2所述的经修饰的核酸分子，其特征在于，所述经修饰的核酸分子上具有3-6个修饰位点。

6.根据权利要求5所述的经修饰的核酸分子，其特征在于，所述经修饰的核酸分子上具有3-4个修饰位点。

7.根据权利要求1所述的经修饰的核酸分子，其特征在于，所述核酸分子为RNA时，其2’OH用选自2’-OMe、2’-F、2’-MOE、锁核酸中的至少之一进行保护。

8.制备权利要求1-7中任一项所述的经修饰的核酸分子的方法，其特征在于，所述方法包括：将硫代磷酸酯修饰的核酸分子与光敏分子反应，获得所述经修饰的核酸分子，

其中，所述光敏分子选自以下式3或式4的光敏基团：

式3，式4，

式3中R1选自卤素；

式4中R2选自卤素。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述卤素选自I、Cl、Br。

10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述光敏分子的化学式为以下式5或式6：

式5，式6。

11.根据权利要求8或9所述的方法，其特征在于，所述硫代磷酸酯修饰的核酸分子与所述光敏分子反应时的摩尔比为1:10-1:10000。

12.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述硫代磷酸酯修饰的核酸分子与所述光敏分子在水溶液体系或水与有机溶剂混合体系中进行，反应体系的pH 4-10。

13.根据权利要求12所述的方法，其特征在于，向所述反应体系中加入缓冲液，所述缓冲液选自磷酸盐缓冲液、碳酸盐缓冲液、MES缓冲液、MOPS缓冲液、HEPES缓冲液。

14.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述硫代磷酸酯修饰的核酸分子中具有3-6个硫代磷酸酯修饰位点。

15.根据权利要求14所述的方法，其特征在于，所述硫代磷酸酯修饰的核酸分子中具有3-4个硫代磷酸酯修饰位点。

16.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述硫代磷酸酯修饰的核酸分子与所述光敏分子反应的反应温度10℃-80℃。

17.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述硫代磷酸酯修饰的核酸分子与所述光敏分子反应的反应时间为0.5 h-200 h。

18.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述硫代磷酸酯修饰的核酸分子与所述光敏分子反应的反应时间为10 h-50 h。