[发明专利]用于电容式测量粉末填充水平的设备以及旋转式压机在审
申请号: | 202011214109.7 | 申请日: | 2020-11-04 |
公开(公告)号: | CN112782244A | 公开(公告)日: | 2021-05-11 |
发明(设计)人: | A·布兰德;N·沃尔特;S·科尔贝 | 申请(专利权)人: | 菲特压片机械有限公司 |
主分类号: | G01N27/22 | 分类号: | G01N27/22;B30B11/08;B30B15/30;B30B15/32 |
代理公司: | 中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038 | 代理人: | 董华林 |
地址: | 德国施*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 电容 测量 粉末 填充 水平 设备 以及 旋转 式压机 | ||
本发明涉及一种用于电容式测量填充装置中的粉末填充水平的设备,所述填充装置用于以要在旋转式压机中压缩的粉末材料填充旋转式压机的凹模盘的模腔,所述设备包括填充装置的填充管,其特征在于,在填充管上设置有第一测量电极,所述第一测量电极与参考电极构成第一电容器,从而在所述第一测量电极与参考电极之间能构成电场,并且所述第一测量电极在其背离填充管的一侧上通过可导电的保护屏蔽部覆盖,其中,所述保护屏蔽部处于地电势上。本发明此外涉及一种旋转式压机。
技术领域
本发明涉及一种用于电容式测量填充装置中的粉末填充水平的设备,所述填充装置用于以要在旋转式压机中压紧的粉末材料填充旋转式压机的凹模盘的模腔,包括填充装置的填充管。
此外,本发明涉及一种旋转式压机,包括能借助于转动驱动器转动的转子,其中,所述转子具有用于旋转式压机的上冲头的上冲头引导部和用于旋转式压机的下冲头的下冲头引导部,以及具有在各冲头引导部之间设置的凹模盘,其中,冲头与凹模盘的模腔配合作用,此外,该旋转式压机包括填充装置,通过所述填充装置将要压紧的粉末材料填充到凹模盘的模腔中,所述填充装置包括填充管,所述旋转式压机此外包括至少一个上挤压装置和至少一个下挤压装置,所述至少一个上挤压装置和至少一个下挤压装置在运行中与上冲头以及与下冲头配合作用,以用于压紧凹模盘的模腔中的粉末材料,所述旋转式压机此外包括排出装置,在模腔中产生的压制品在该排出装置中被排出。
背景技术
在旋转式压机中,在模腔中填充的粉末材料借助于上冲头和下冲头挤压成压制品,尤其是片剂。粉末材料借助于旋转式压机的填充装置被填充到模腔中。这种填充装置通常包括填充管,粉末材料通过所述填充管通常由于重力落入填充腔中,所述填充材料又通常借助于重力从填充腔到达模腔中。在此值得期望的是,监控填充装置中、尤其是填充管中的填充水平,以便在任何时候都确保足够的粉末可用性。已提出,为此在填充管的内部设置传感器。然而在粉末材料流中设置传感器会导致对粉末材料流的妨碍,例如形成桥接。这可能以不期望的方式损害粉末可用性。
在旋转式压机中,在模腔中填充的粉末材料借助于上冲头和下冲头挤压成压制品,尤其是片剂。粉末材料借助于旋转式压机的填充装置被填充到模腔中。这种填充装置通常包括填充管,粉末材料通过所述填充管通常由于重力落入填充腔中,所述填充材料又通常借助于重力从填充腔到达模腔中。在此值得期望的是,监控填充装置中、尤其是填充管中的填充水平,以便在任何时候都确保足够的粉末可用性。已提出,为此在填充管的内部设置传感器。然而在粉末材料流中设置传感器会导致对粉末材料流的妨碍,例如形成桥接。这可能以不期望的方式损害粉末可用性。
在EP2400275A1中说明了一种用于非侵入式、非接触式地电容式测量例如散料在容器中的填充水平的设备。填充水平传感器与填充高度要被确定的填充介质不接触。相反,设有电极,所述电极像翻开的板状电容器一样设置并且在所述电极之间产生高频的交变电场,所述电场无损地穿过要测量的材料。所形成的电容器的电容取决于填充材料的介电常数。在此,要测量的填充材料具有与空气不同的介电常数。以这种方式,以要测量的材料以不同的高度覆盖传感器面导致电容器的不同的电容。由此可推断出容器中的材料的填充高度。
外部影响、如外部电磁场或外部物体、例如在测量电极附近的操作者的手会构成问题。为了降低易受外部影响的可能性,在EP2400275A1中提出,在不同的水平面上设置多个测量电极,它们定义具有竖直延伸尺寸的测量面,并且设置至少一个参考电极,所述参考电极限定具有竖直延伸尺寸的参考面。这多个测量电极中的每个测量电极与参考电极一起分别构成一个电容器。在此,测量至少两个电容器并且使测量值彼此相关。通过可信度检查应计算地消除作为干扰源的外部影响。然而已知的设备需要非常大的结构上的以及评估技术上的成本。并且可信度分析不总是能提供可靠的结果。
为了在电容式测量填充水平时相对于外部干扰源进行保护,在实践中此外已知所谓的主动式屏蔽(Active Shielding),其中,用作屏蔽的电极在测量时被操控至与测量电极具有相同的电势。虽然通过所述主动式屏蔽能降低外部干扰源的影响,但在电容式测量填充水平时仍存在进一步相对于外部干扰进行改进的保护的要求。
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