[发明专利]一种清除石墨盘表面沉积物的方法在审
申请号: | 202011215503.2 | 申请日: | 2020-11-04 |
公开(公告)号: | CN112430804A | 公开(公告)日: | 2021-03-02 |
发明(设计)人: | 孙飞 | 申请(专利权)人: | 苏州尚勤光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 | 代理人: | 王春丽 |
地址: | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 清除 石墨 表面 沉积物 方法 | ||
1.一种清除石墨盘表面沉积物的方法,其特征在于:包括以下步骤:
第一,将待清洗的石墨盘放入清洗设备的清洗腔内;
第二,将清洗腔内的压力抽至0托;
第三,向清洗腔内充入氮气,使清洗腔内的压力升至1000托;
第四,重复第二步和第三步,重复次数不低于三次;
第五,将清洗腔内的压力再次抽至0托,并在氮气氛围下,将清洗腔升温至930℃;
第六,对清洗腔内通过混合气体,并持续2小时;
第七,对清洗腔进行降温,并通入氮气进行吹扫。
2.根据权利要求1所述的一种清除石墨盘表面沉积物的方法,其特征在于:所述混合气体为5%的氯气和氮气组成的混合气体。
3.根据权利要求1所述的一种清除石墨盘表面沉积物的方法,其特征在于:第五步骤中的升温时间为3小时,第七步骤中的吹扫时间为5小时。
4.根据权利要求1所述的一种清除石墨盘表面沉积物的方法,其特征在于:所述清洗设备为烤炉盘或MOCVD设备。
5.根据权利要求1所述的一种清除石墨盘表面沉积物的方法,其特征在于:所述第四步骤中的重复次数为五次。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的