[发明专利]基于RGB三基色宽光谱高效率偏振无关的斜双层光栅在审
| 申请号： | 202011221276.4 | 申请日： | 2020-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN114442211A | 公开（公告）日： | 2022-05-06 |
| 发明（设计）人： | 刘炜程;周常河;金戈;贾伟 | 申请（专利权）人： | 暨南大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人： | 詹丽红 |
| 地址： | 510632 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基于 rgb 基色 光谱 高效率 偏振 无关 双层 光栅 | ||
【权利要求书】：
1.一种基于RGB三基色宽光谱高效率偏振无关的斜双层光栅，所述的斜双层光栅是适用于中心波长为蓝光460纳米、绿光526纳米、红光620纳米的高效率偏振无关斜双层光栅，其特征在于，所述的斜双层光栅的基底是石英，第一层材料为MgF2，深度为h1，第二层材料为石英，深度为h2，第一层材料和第二层材料构成的光栅层为具有一定倾斜角度的光栅结构，在正入射的情况下该光栅结构具有454～630纳米的波长带宽，所述的斜双层光栅的周期d为706～727纳米，脊宽b为396～418纳米，倾斜角θ为18～19度，光栅深度h1为452～504纳米，光栅深度h2为691～743纳米。
2.根据权利要求1所述的基于RGB三基色宽光谱高效率偏振无关的斜双层光栅，其特征在于，所述的斜双层光栅的周期d为726.1纳米，脊宽b为416.9纳米，光栅倾角θ为18.2度，光栅深度h1为484.6纳米，光栅深度h2为723.7纳米。
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