[发明专利]应用于工业企业的数据存储介质

说明书

本发明公开了应用于工业企业的数据存储介质，包括玻璃衬底，其特征在于：对所述玻璃衬底进行蚀刻，并得到若干数据行上预设的数据源位点，从而形成数据存储介质，所述玻璃衬底中摩尔百分率表示含有50～65％的SiO₂、2～8％的Al₂O₃、1～8％的MgO、1～5％的CaO、1～8％的SrO、1～10％的BaO、1～2％的TiO₂、1～2％的ZrO₂、1～2％的Li₂O、0～7％的Na₂O、1～5％的K₂O、1～4％的La₂O₃，Al₂O₃和ZrO₂的合计含量(Al₂O₃+ZrO₂)为10％以下，Li₂O、Na₂O和K₂O的合计含量R₂O为10％以下，玻璃化温度在660℃以上。

技术领域

本发明属于工业企业数据技术领域，具体涉及应用于工业企业的数据存储介质。

背景技术

目前市场上的存储介质均采用光盘、硬盘、磁带进行数据的存储。例如光盘，通常采用聚碳酸酯制作，通过无数的能反射光线的凹凸坑标记无数的0和1记录和存储数据，大量的 0和1组合可以表现出各种各样的音像文件、图像文件等。但现有光盘，甚至硬盘、磁带等数据存储介质基于自身材料性能和结构的限制以及长时间使用或存储不当极易磨损乃至损坏，造成数据丢失，因此记载于现有存储介质上的文件普遍保存时间不长，难以用于存储珍稀文物资料，限制其应用。近年来，随着硬盘驱动器的存储容量的增大，高记录密度化正在高速进展。然而，随着高记录密度化，磁性颗粒的微细化损害热稳定性，串扰、再生信号的信噪比(SN比)降低成为问题。因此，作为光与磁的融合技术，热辅助磁记录技术受人注目。

存储介质是数据存储首先要解决的问题，是数据存储的载体，是数据存储的基础。存储介质并不是越贵越好、越先进越好，要根据不同的应用环境，合理选择存储介质。

发明内容

针对上述背景技术所提出的问题，本发明的目的是：旨在提供应用于工业企业的数据存储介质。

为实现上述技术目的，本发明采用的技术方案如下：

应用于工业企业的数据存储介质，包括玻璃衬底，其特征在于：对所述玻璃衬底进行蚀刻，并得到若干数据行上预设的数据源位点，从而形成数据存储介质，所述玻璃衬底中摩尔百分率表示含有50～65％的SiO₂、2～8％的Al₂O₃、1～8％的MgO、1～5％的CaO、1～8％的 SrO、1～10％的BaO、1～2％的TiO₂、1～2％的ZrO₂、1～2％的Li₂O、0～7％的Na₂O、1～5％的K₂O、1～4％的La₂O₃，Al₂O₃和ZrO₂的合计含量(Al₂O₃+ZrO₂)为10％以下，Li₂O、Na₂O和K₂O 的合计含量R₂O为10％以下，玻璃化温度在660℃以上。

进一步限定，每一所述数据行中的所有数据源位点呈环向阵列或线性阵列分布，且多个所述数据行等间距设置，这样的设计，分布均匀，数据存储效果好。

进一步限定，所述玻璃衬底的蚀刻速度为80-150nm/s，这样的设计，保证蚀刻效果。

进一步限定，SrO为2mol％以上，BaO为2mol％以上，Na₂O为0～3mol％，这样的设计，不易发生表面粗糙。