[发明专利]一种酸性玻璃化抛工艺及其化抛设备

权利要求书

1.一种酸性玻璃化抛工艺，化抛工艺目的是减少玻璃产品的光线反射，提高产品的透光率，其特征在于，所述化抛工艺包括酸洗、AG蚀刻、化抛、脱油墨、物理及化学清洗等工序，再结合水洗配合，各工艺交叉循环配合，化抛工艺如下：

S1、投料；

S2、水洗；

S3、酸洗；

S4、水洗；

S5、AG蚀刻：AG蚀刻包括冰水浸泡、蚀刻液冲刷及水刀冲洗；

S6、水洗；

S7、单面化抛；

S8、水洗；

S9、脱油墨；

S10、水洗；

S11、双面化抛；

S12、水洗；

S13、物理化学清洗；

S14、水洗；

S15、烘干；

S16、检验包装。

2.根据权利要求1所述的一种酸性玻璃化抛工艺，其特征在于，所述步骤S2、S4、S6、S8、S10、S12和S14中清洗纯水均为流动水。

3.根据权利要求1所述的一种酸性玻璃化抛工艺，其特征在于，所述步骤S3酸洗选用低浓度的氢氟酸清洗玻璃表面的各种杂质和脏污，保证表面洁净，槽液每15d更换一次，产生的酸性废水主要成分为氢氟酸、氟硅酸盐，无害处理后排放。

4.根据权利要求1所述的一种酸性玻璃化抛工艺，其特征在于，所述步骤S5蚀刻方法：

S51、冰水浸泡：将水洗后的玻璃产品在冰水中浸泡5-10s，使表面覆盖一层冰水膜，冰水温度不能超过15℃；

S52、蚀刻液冲刷：将冰水处理后的玻璃产品经传输线送入蚀刻线内，蚀刻线内的摇摆喷管，将蚀刻液均匀喷洒、补充在产品表面，槽液按产量补加更换，10d一次；

S53、水刀冲洗：玻璃产品通过蚀刻后立即经过水刀，将产品表面的蚀刻液冲洗干净，该工序产生的废物主要为更换的废弃蚀刻液以及清洗废水，主要污染物为pH、COD、氟硅酸盐、SS等。

5.根据权利要求1所述的一种酸性玻璃化抛工艺，其特征在于，所述步骤S7通过化抛降低AG蚀刻后产品表面雾度、粗糙度，单面化抛采用氢氟酸减薄，产品的一面涂保护油墨，氢氟酸只作用在无保护油墨的一面，化抛槽采用多联循环，化抛槽液流向步骤S3的酸洗槽内，产品在线上运行时持续补充化抛液，化抛槽液每15d补加一次氢氟酸。

6.根据权利要求1所述的一种酸性玻璃化抛工艺，其特征在于，所述步骤S9为产品进入双面化抛工序前进行表面保护油墨清除，脱油墨采用碱性药水浸泡，主要成份为NaOH，定期补加补水，温度90℃，该工序产生的主要污染物为碱性洗废水和固态油墨。

7.根据权利要求1所述的一种酸性玻璃化抛工艺，其特征在于，所述步骤S11双面化抛原理和目的与单面化抛相同，区别在于双面化抛采用浸泡式，玻璃产品完全沉浸于化抛液中，槽液按照双面化抛效率定期补加氢氟酸，废弃槽液回流入酸洗工序，产生废物主要为酸性清洗废水。

8.根据权利要求1所述的一种酸性玻璃化抛工艺，其特征在于，所述步骤S13中清洗方法是通过将产品置于清洗线上，清洗线采用药液浸泡加超声波同时作用清洗，槽液按照清洗效果定期更换，3d更换一次，工序产生的清洗废水主要污染物为pH、COD、石油类、SS等。

9.根据权利要求1-8任意一项所述的一种酸性玻璃化抛工艺的化抛设备，其特征在于，所述化抛设备优选降低生产能源消耗、降低产品成本的设备，提高企业的经济效益、增加产品的竞争能力，化抛设备包括酸洗生产线、AG玻璃蚀刻线、单面化抛生产线、脱油墨槽、双面化抛生产线、清洗烤干一体线、空压机和真空包装机。