[发明专利]光源组件在审
申请号: | 202011226106.5 | 申请日: | 2020-11-05 |
公开(公告)号: | CN114442410A | 公开(公告)日: | 2022-05-06 |
发明(设计)人: | 赵鹏;吴超;余新;廖英岚;李屹 | 申请(专利权)人: | 深圳光峰科技股份有限公司 |
主分类号: | G03B21/20 | 分类号: | G03B21/20;G02B27/09 |
代理公司: | 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 | 代理人: | 袁江龙 |
地址: | 518052 广东省深圳市南山区粤*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光源 组件 | ||
1.一种光源组件,其特征在于,所述光源组件包括:
光源阵列,包括多个光源,所述光源用于发射激光;
整形控制器,设置于所述激光的光路上,包括多个整形控制单元,用于对所述光源阵列发射的激光进行整形,所述整形控制单元的形状与所述光源阵列的形状相一致,以使得由所述光源相同位置发出的激光经所述整形控制单元整形后,在第一预设平面形成多个均匀排布的第一光斑,所述多个第一光斑共同形成亮度均匀的第一照明区域。
2.根据权利要求1所述的光源组件,其特征在于,多个第一光斑相互拼接或者相互叠加以形成所述亮度均匀的第一照明区域。
3.根据权利要求1所述的光源组件,其特征在于,控制所述光源的面分布、所述光源的面分布在所述光源阵列中的占空比、所述光源的主光线方向,以得到均匀第一照明区域后,调节所述光源的亮度分布和所述多个第一光斑的交叠区域的大小。
4.根据权利要求3所述的光源组件,其特征在于,调节所述光源阵列中所述光源的大小和多个所述光源之间的间距,以调节所述光源的面分布在光源阵列的占空比。
5.根据权利要求3所述的光源组件,其特征在于,所述光源组件还包括设置于所述光源阵列和所述整形控制器之间的第一透镜阵列,所述第一透镜阵列包括与所述多个光源对应的多个第一透镜,所述第一透镜用于调节所述光源的主光线方向以及调节所述光源阵列经所述第一透镜阵列后出射的激光的面分布在光源阵列的占空比。
6.根据权利要求1-5所述的光源组件,其特征在于,所述光源组件还包括设置于所述整形控制器出射方向的第二透镜阵列,所述第二透镜阵列包括与所述多个光源对应的多个第二透镜,所述第二透镜用于将所述整形控制组件出射的光斑的角分布转化为面分布,并在第二预设平面形成多个均匀排布的第二光斑,所述多个第二光斑形成亮度均匀的第二照明区域。
7.根据权利要求8所述的光源组件,其特征在于,所述光源组件还包括设置于所述第二透镜阵列出射方向的第三透镜阵列,所述第三透镜阵列包括与所述多个第二透镜对应的多个第三透镜,所述第二透镜和所述第三透镜的焦距不同,以调节所述光源的主光线方向。
8.根据权利要求1所述的光源组件,其特征在于,所述整形控制单元的形状为三角形、矩形或六边形。
9.根据权利要求1所述的光源组件,其特征在于,所述整形控制器为复眼。
10.一种投影系统,其特征在于,包括:如权利要求1-9所述的光源组件;
空间光调制装置,用于接收来自所述光源组件的光束并对其进行调制。
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