[发明专利]防腐蚀性铜及电真空器件

说明书

本申请实施例提供一种防腐蚀性铜及电真空器件，属于电真空设备材料领域。在防腐蚀性铜中，铜晶界数量≤10个/cm²；该防腐蚀性铜为晶畴为Cu(111)、Cu(200)和Cu(220)其中一种的单晶铜，单晶铜的XRD测试的单晶峰强＞3*10³。电真空器件具有真空作业元件，该真空作业元件的材质为该防腐蚀性铜。本申请的防腐蚀性铜在单位面积内具有特定的铜晶界数量，且其晶畴具有特定的单晶取向以及单晶峰强，使得铜材料自身具有较好的防腐蚀性能，能够有效改善真空作业元件的腐蚀问题，提高真空作业元件的散热性能和使用寿命。

技术领域

本申请涉及电真空设备材料领域，具体而言，涉及一种防腐蚀性铜及电真空器件。

背景技术

磁控管是一种产生微波能的电真空器件，管子内部保持高真空状态，管内电子在相互垂直恒定的磁场和电场控制下发生相互作用，把从电场中获得的能量转变成微波能量。磁控管具有结构简单、效率高、工作电压低、电源简单和适应负载变化能力强等优点，因而特别适用于电真空领域的微波加热等微波能应用或雷达等。

现有报道的磁控管阳极管，所采用的铜材料在高温环境下铜会被氧化，在阳极管表面形成一层致密氧化铜层，导致阳极管散热变差，影响向散热片热量传输，导致整个磁控管散热性能和寿命降低。

发明内容

本申请的目的在于提供一种防腐蚀性铜及电真空器件，防腐蚀性铜具有较好的防腐蚀性能，能够有效改善真空作业元件的腐蚀问题，提高真空作业元件的散热性能和使用寿命。

本申请的实施例是这样实现的：

第一方面，本申请实施例提供一种防腐蚀性铜，在防腐蚀性铜中，铜晶界数量≤10个/cm²，防腐蚀性铜为晶畴为Cu(111)、Cu(200)和Cu(220)其中一种的单晶铜，单晶铜的XRD测试的单晶峰强＞3*10³。

第二方面，本申请实施例提供一种电真空器件，具有真空作业元件，真空作业元件的材质为如第一方面实施例提供的防腐蚀性铜。

本申请实施例提供的防腐蚀性铜及电真空器件，有益效果包括：

本申请的防腐蚀性铜在单位面积内具有特定的铜晶界数量，且其晶畴具有特定的单晶取向以及单晶峰强，使得铜材料自身具有较好的防腐蚀性能，能够有效改善真空作业元件的腐蚀问题，提高真空作业元件的散热性能和使用寿命。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本申请的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1为本申请实施例1～2中的铜材料的XRD图；

图2为本申请实施例3～4中的铜材料的XRD图；

图3为本申请实施例5中的铜材料的XRD图；

图4为本申请实施例1中的铜材料在高温条件下，不同时间阶段的表面变化情况图；

图5为本申请对比例1中的铜材料在高温条件下，不同时间阶段的表面变化情况图；

图6为本申请实施例1和对比例3中的铜材料表面的氧化层厚度的变化情况曲线图；

图7为本申请实施例1中铜材料Cu(220)和实施例3中铜材料Cu(200)氧化层厚度对比变化情况。

具体实施方式

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。