[发明专利]一种超低反射率的光学增透膜

权利要求书

1.一种超低剩余反射率的光学增透膜，应用于光学玻璃上，其特征在于，所述超低剩余反射率的光学增透膜包括用于固定至所述光学玻璃的增透膜主体，所述增透膜主体具有用以固定至所述光学玻璃的近端、以及远离所述光学玻璃的远端；

所述增透膜主体包括十三层膜层，所述十三层膜层包括七层氟化镁膜层以及六层钛酸镧膜层，所述氟化镁膜层与所述钛酸镧膜层由近至远依次交替层叠布设。

2.如权利要求1所述的超低剩余反射率的光学增透膜，其特征在于，所述十三层膜层中每一所述膜层的厚度大于10nm。

3.如权利要求1所述的超低剩余反射率的光学增透膜，其特征在于，所述七层氟化镁膜层由近至远分别为第一氟化镁膜层、第二氟化镁膜层、第三氟化镁膜层、第四氟化镁膜层、第五氟化镁膜层、第六氟化镁膜层、第七氟化镁膜层；

所述第一氟化镁膜层，厚度为26.85nm-27.05nm；和/或，

所述第二氟化镁膜层，厚度为204.04nm-204.24nm；和/或，

所述第三氟化镁膜层，厚度为15.90nm-16.10nm；和/或，

所述第四氟化镁膜层，厚度为54.66nm-54.86nm；和/或，

所述第五氟化镁膜层，厚度为83.14nm-83.34nm；和/或，

所述第六氟化镁膜层，厚度为14.90nm-15.20nm；和/或，

所述第七氟化镁膜层，厚度为97.41nm-97.61nm。

4.如权利要求3所述的超低剩余反射率的光学增透膜，其特征在于，所述第一氟化镁膜层厚度为26.95nm，所述第二氟化镁膜层厚度为204.14nm，所述第三氟化镁膜层厚度为16.00nm，所述第四氟化镁膜层厚度为54.76nm，所述第五氟化镁膜层厚度为83.24nm，所述第六氟化镁膜层厚度为15.00nm，所述第七氟化镁膜层厚度为97.51nm。

5.如权利要求1所述的超低剩余反射率的光学增透膜，其特征在于，所述六层钛酸镧膜层由近至远分别为第一钛酸镧膜层、第二钛酸镧膜层、第三钛酸镧膜层、第四钛酸镧膜层、第五钛酸镧膜层、第六钛酸镧膜层；

所述第一钛酸镧膜层，厚度为14.98nm-15.18nm；和/或，

所述第二钛酸镧膜层，厚度为17.91nm-18.11nm；和/或，

所述第三钛酸镧膜层，厚度为112.53nm-112.73nm；和/或，

所述第四钛酸镧膜层，厚度为14.90nm-15.10nm；和/或，

所述第五钛酸镧膜层，厚度为43.36nm-43.56nm；和/或，

所述第六钛酸镧膜层，厚度为61.39nm-61.59nm。

6.如权利要求5所述的超低剩余反射率的光学增透膜，其特征在于，所述第一钛酸镧膜层厚度为15.08nm，所述第二钛酸镧膜层厚度为18.01nm，所述第三钛酸镧膜层厚度为112.63nm，所述第四钛酸镧膜层厚度为15.00nm，所述第五钛酸镧膜层厚度为43.46nm，所述第六钛酸镧膜层厚度为61.49nm。

7.如权利要求1所述的超低剩余反射率的光学增透膜，其特征在于，所述氟化镁膜层的折射率为1.364-1.384。

8.如权利要求7所述的超低剩余反射率的光学增透膜，其特征在于，所述氟化镁膜层的折射率为1.374。

9.如权利要求1所述的超低剩余反射率的光学增透膜，其特征在于，所述钛酸镧膜层的折射率为2.054-2.074。

10.如权利要求9所述的超低剩余反射率的光学增透膜，其特征在于，所述钛酸镧膜层的折射率为2.064。