[发明专利]像差测量方法、物品制造方法以及曝光装置

权利要求书

1.一种像差测量方法，其特征在于，包括：

通过在投影光学系统的光轴方向上的多个位置处测量透射配置于所述投影光学系统的物体侧的物体侧标记、所述投影光学系统以及配置于所述投影光学系统的像侧的像侧标记的光的光量，从而获取表示所述光轴方向上的位置与所述光量的关系的光量分布的工序；

求出表示所述光量分布中的以所述投影光学系统的焦点位置为对称轴的非对称性的特征量的工序；以及

根据所述特征量来决定所述投影光学系统的像差量的工序。

2.根据权利要求1所述的像差测量方法，其特征在于，

在求出所述特征量的工序中，根据所述光量分布与针对所述光量分布拟合的高斯函数的差来求出所述特征量。

3.根据权利要求2所述的像差测量方法，其特征在于，

在求出所述特征量的工序中，作为所述特征量而求出用关于以所述焦点位置为中心的预定的积分区间对所述高斯函数进行积分而得到的值将关于所述积分区间对所述差进行积分而得到的值进行标准化而得到的值。

4.根据权利要求1所述的像差测量方法，其特征在于，

在求出所述特征量的工序中，根据针对所述光量分布拟合的多项式函数的奇数次项来求出所述特征量。

5.根据权利要求4所述的像差测量方法，其特征在于，

在求出所述特征量的工序中，作为所述特征量而求出用关于以所述焦点位置为中心的预定的积分区间对所述多项式函数的偶数次项进行积分而得到的值将关于所述积分区间对所述奇数次项进行积分而得到的值标准化而得到的值。

6.根据权利要求1所述的像差测量方法，其特征在于，

在求出所述特征量的工序中，根据针对所述光量分布拟合的多项式函数的特定的次数的系数来求出所述特征量。

7.根据权利要求1所述的像差测量方法，其特征在于，

在求出所述特征量的工序中，根据关于所述焦点位置与从所述焦点位置起向正方向预定距离的位置之间的区间对所述光量分布进行积分而得到的值、以及关于从所述焦点位置起向负方向所述预定距离的位置与所述焦点位置之间的区间对所述光量分布进行积分而得到的值，求出所述特征量。

8.根据权利要求1所述的像差测量方法，其特征在于，

在决定所述像差量的工序中，根据表示所述投影光学系统的像差量与所述特征量的关系的信息，决定所述投影光学系统的像差量。

9.根据权利要求1所述的像差测量方法，其特征在于，

所述像差量包括球面像差量。

10.一种物品制造方法，其特征在于，包括：

测量工序，依照权利要求1至9中的任意一项所述的像差测量方法来测量曝光装置的投影光学系统的像差量；

调整工序，根据在所述测量工序中测量出的像差量来调整所述投影光学系统的像差；

曝光工序，在所述调整工序之后，利用所述曝光装置对涂敷有感光材料的基板进行曝光；

显影工序，在所述曝光工序之后，使所述感光材料显影；以及

处理工序，对经由所述显影工序的所述基板进行处理，

所述物品制造方法从经由所述处理工序的所述基板得到物品。

11.一种曝光装置，具备原版载置台、投影光学系统、基板载置台、配置于所述基板载置台的受光部、以及控制部，所述曝光装置的特征在于，

所述受光部在所述投影光学系统的光轴方向上的多个位置处测量透射配置于所述投影光学系统的物体侧的物体侧标记、所述投影光学系统以及配置于所述投影光学系统的像侧的像侧标记的光的光量，

所述控制部根据来自所述受光部的输出，求出表示所述光轴方向上的位置与所述光量的关系的光量分布，求出表示所述光量分布中的以所述投影光学系统的焦点位置为对称轴的非对称性的特征量，根据所述特征量来决定所述投影光学系统的像差量。