[发明专利]用于压印纳米结构的方法和装置在审
| 申请号： | 202011231477.2 | 申请日： | 2014-04-22 |
| 公开（公告）号： | CN112445065A | 公开（公告）日： | 2021-03-05 |
| 发明（设计）人： | G.克赖因德尔 | 申请（专利权）人： | EV集团E·索尔纳有限责任公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 刘子豪;王玮 |
| 地址： | 奥地利圣*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 压印 纳米 结构 方法 装置 | ||
1.一种用于将纳米结构压印到基体的盖印面的方法，包括：
在印压操作之前将漆施加到所述基体的盖印面上；和
在所述印压操作期间，在真空或周围环境压力下在惰性气体下将纳米结构盖印的纳米结构压印到所述基体，
其中，所述漆在分离的模块中与压印所述纳米结构盖印的纳米结构分离地被施加。
2.根据权利要求1所述的方法，还包括在所述印压操作期间利用变形器件使所述纳米结构盖印变形，以使所述纳米结构与所述基体的盖印面的部分面进入接触，其中，所述变形器件暴露于流体。
3.根据权利要求1所述的方法，还包括在所述印压操作期间利用变形器件使所述纳米结构盖印变形，以使所述纳米结构与所述基体的盖印面的部分面进入接触，其中，所述变形器件暴露于气体。
4.根据权利要求1所述的方法，还包括在所述印压操作期间执行分离操作，其中，所述分离操作在力传感器的控制下进行。
5.一种用于将纳米结构从纳米结构盖印压印到基体的盖印面中的装置，包括：
用于将漆施加到所述基体的盖印面上的漆施加模块，
用于对所述纳米结构盖印进行预紧的变形器件，其中，该变形器件暴露于流体或气体，以及
接触器件，用于使所述基体的盖印面的部分面与所述纳米结构盖印接触，
其中，所述漆施加模块与所述变形器件和所述接触器件分离。
6.根据权利要求5所述的装置，还包括：
力传感器，用于在分离操作期间控制所述纳米结构盖印和所述基体的盖印面的松开。
7.根据权利要求5所述的装置，还包括：
促动器，用于机械地接近来自所述纳米结构盖印的纳米结构和所述基体的盖印面的部分面。
8.根据权利要求5所述的装置，还包括：
用于机械地接近来自纳米结构盖印的纳米结构和所述基体的盖印面的部分面的销。
9.根据权利要求7所述的装置，其中，所述促动器被加压以流体。
10.根据权利要求7所述的装置，其中，所述促动器被加压以气体。
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