[发明专利]一种连续低温等离子体粉末处理和球磨生产装置及其方法

权利要求书

1.一种连续低温等离子体粉末处理和球磨生产装置，其特征在于，包括粉末循环输送管道系统(1)、球磨机(2)、低温等离子体放电管道(3)、真空出料系统(4)和可控制气氛系统(5)，所述粉末循环输送管道系统(1)通过管道与球磨机(2)和低温等离子体放电管道(3)顺次连接，所述低温等离子体放电管道(3)与粉末循环输送管道系统(1)连接；所述可控制气氛系统(5)与粉末循环输送管道系统(1)连接。

2.根据权利要求1所述连续低温等离子体粉末处理和球磨生产装置，其特征在于，所述的粉末循环输送管道系统(1)包括投料仓(11)、暂存仓(13)、下料管道(15)、负压风机(110)和反吹系统(111)；所述投料仓(11)与暂存仓(13)连接，所述暂存仓(13)的底部下料出口与真空出料系统(4)连接，所述暂存仓(13)上设置有反吹系统(111)，所述反吹系统(111)通过管道与负压风机(110)连接，所述负压风机(110)通过管道与球磨机(2)、低温等离子体放电管道(3)和暂存仓(13)顺次连接。

3.根据权利要求2所述连续低温等离子体粉末处理和球磨生产装置，其特征在于，还包括第一气动蝶阀(12)、旋转下料阀(14)、第二气动蝶阀(16)、调节闸阀(17)、第三气动蝶阀(18)和消声器(19)；所述第一气动蝶阀(12)设置于投料仓(11)与暂存仓(13)之间；所述暂存仓(13)的出料口处设置有旋转下料阀(14)；所述负压风机(110)出口设置有消声器(19)，所述消声器(19)与球磨机(2)之间的管道上设置有第三气动蝶阀(18)、调节闸阀(17)和第二气动蝶阀(16)。

4.根据权利要求1所述连续低温等离子体粉末处理和球磨生产装置，其特征在于，所述的低温等离子体放电管道(3)包括进料口(31)、出料口(32)、外介质阻挡层(33)、内介质阻挡层(34)、外高压电极(35)、内地电极(36)、冷却液(37)、管道放电间隙(38)和脉冲高压电源(39)；所述内介质阻挡层(34)形成管道壁面，其中管道内部设置有内地电极(36)，所述内地电极(36)为中空，内部设置有冷却液(37)，所述内地电极(36)的外壁面设置有外介质阻挡层(33)；所述内介质阻挡层(34)外部设置有外高压电极(35)，所述外高压电极(35)与内地电极(36)之间连接有脉冲高压电源(39)。

5.根据权利要求1～4任一项所述连续低温等离子体粉末处理和球磨生产装置，其特征在于，所述可控制气氛系统(5)包括工作气瓶(51)、调压阀(52)、压力传感器(53)、第四气动蝶阀(54)和除尘器(55)；所述工作气瓶(51)分别与反吹系统(111)和负压风机(110)的出口管路连接，所述除尘器(55)设置于工作气瓶(51)与反吹系统(111)之间的管路上，所述工作气瓶(51)与负压风机(110)的出口之间的管理上设置有调压阀(52)、压力传感器(53)和气动蝶阀(54)。

6.权利要求1～5任一项所述装置的使用方法，其特征在于，所述的粉末循环输送系统(1)通过可控的气压和流转速度对待处理物料粉末进行循环输送，在此过程中，一方面在部分粉末输送管道中引入介质阻挡放电结构，形成低温等离子体放电管道(3)，实现对管道中的流转物料粉末进行等离子体放电处理，另一方面在粉末管道输送过程中引入球磨机(2)，同时对等离子体放电处理的粉末进行球磨细化或者合金化；整个过程中通过可控制气氛系统(5)对粉末流转速度、气压、放电气氛进行调控，处理完成之后的物料粉末进入真空出料系统(4)进行回收打包；

所述的粉末循环输送管道系统(1)采用负压条件运行；

所述的球磨机(2)采用振动球磨或滚筒球磨；

所述的低温等离子体放电管道(3)是利用粉末输送管道搭建双介质阻挡放电低温等离子体装置，并搭配脉冲高压电源；

所述的可控制气氛系统(5)与粉末循环输送管道系统连接，提供粉末处理和输送过程所需要的保护或者反应气氛，该气氛通过低温等离子体放电管道中可以离化放电，实现等离子体对被加工粉体表面改性效果；所述气氛包括氩气、氮气、氨气、氢气或氧气。