[发明专利]光学成像薄膜在审
| 申请号： | 202011236936.6 | 申请日： | 2016-03-22 |
| 公开（公告）号： | CN112327392A | 公开（公告）日： | 2021-02-05 |
| 发明（设计）人： | 张健 | 申请（专利权）人： | 昇印光电（昆山）股份有限公司 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02B30/27;B29D11/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 215300 江苏省苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光学 成像 薄膜 | ||
1.一种光学成像薄膜，其特征在于，包括：
本体，其包括相背对的第一表面和第二表面；
聚焦结构，设置于所述第一表面；
多层图文结构，依次层叠设置于所述第二表面；
其中，所述聚焦结构包括聚焦单元，所述图文结构包括图文单元，所述多层图文结构的每一层所述图文结构的图文单元通过同一所述聚焦单元分别形成悬浮影像。
2.根据权利要求1所述的光学成像薄膜，其特征在于，每一层所述图文结构距离所述聚焦结构的焦平面的距离在所述聚焦结构的焦距的0.7倍-1.3倍之间。
3.根据权利要求1所述的光学成像薄膜，其特征在于，每一层所述图文结构所形成的悬浮影像的高度与每一层所述图文结构与所述聚焦结构之间的距离满足如下关系式：
其中，di为所述悬浮影像的高度；fi为第i层图文结构与所述聚焦结构之间的距离；R为聚焦结构的曲率半径；xi为第i层图文结构的水平坐标；xMLA为聚焦结构的水平坐标；i的取值范围为1～N。
4.根据权利要求1所述的光学成像薄膜，其特征在于，位于不同层所述图文结构中的所述图文单元在水平面上的投影不完全重合。
5.根据权利要求1所述的光学成像薄膜，其特征在于，位于同一层所述图文结构中的所述图文单元的颜色相同，位于不同层所述图文结构中的图文单元的颜色不同。
6.根据权利要求1所述的光学成像薄膜，其特征在于，所述本体、所述聚焦结构和所述多层图文结构为一体结构。
7.根据权利要求1所述的光学成像薄膜，其特征在于，所述图文结构包括凹槽和填充入所述凹槽内的承载物，所述承载物为着色材料、染色材料、金属材料或导电材料。
8.根据权利要求1所述的光学成像薄膜，其特征在于，所述聚焦结构的顶部与所述多层图文结构中离所述聚焦结构最近的一层所述图文结构的顶部之间的距离为2-150微米。
9.根据权利要求1所述的光学成像薄膜，其特征在于，所述光学成像薄膜还包括：
反射结构，设置于所述聚焦结构的外表面，其用于对所述多层图文结构的成像进行反射。
10.根据权利要求1所述的光学成像薄膜，其特征在于，所述光学成像薄膜还包括：
保护结构，设置于所述聚焦结构的外表面，其用于保护所述聚焦结构，以避免所述聚焦结构遭受外界环境的污染。
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