[发明专利]一种基于变去除函数大气等离子体的熔石英抛光方法

权利要求书

1.一种基于变去除函数大气等离子体的熔石英抛光方法，其特征是该抛光方法包括以下步骤：

步骤一：将待加工熔石英元件放置在大气等离子体设备的加工平台上，开启大气等离子体，设定加工参数，使大气等离子体火焰保持长时间稳定；

步骤二：移动机床内部等离子体炬，设在速度区间V₁至V_e内，以递增速度ΔV在元件表面进行多组去除函数实验；

步骤三：加工后采用干涉仪对熔石英元件表面进行检测，x、y分别为加工元件的坐标，去除函数为高斯型：

提取上述不同速度下多组高斯型去除函数IF的幅值系数A_i、方差系数C_i，；

步骤四：计算待加工熔石英元件在加工平台相对驻留时间t与A_i、C_i的关系，公式如下：

式中，e为欧拉数，a₁、a₂为比例系数，c₁、c₂为常数系数。

步骤五：计算待加工熔石英元件的理想面形，公式如下：

Δh(x,y)＝K·P(x,y)·V(x,y)

式中，Δh(x,y)为抛光区域抛光点处(x,y)单位时间内的材料去除深度；P(x,y)为施加在抛光区域的抛光压力；V(x,y)为抛光头与工件的相对抛光速度；K为受抛光工件材料、环境温度因素影响的Preston系数；

步骤六：采用干涉仪检测元件原始面型，根据待加工元件的原始面形与理想面形之差得到理论去除量，理论去除量除以经验线性预估比例系数k得到对应驻留时间；

步骤七：计算待加工熔石英元件的去除厚度：

将整个面按1mm划分成多个加工点，每个加工点按其需要加工的量确定对应驻留时间，分别计算每个加工点的去除量再进行整体叠加，再根据变去除函数找到对应去除量的加工速度，最终多次迭代得到整个加工面的加工速度分布表。

步骤八：将步骤七所得加工速度分布表导入大气等离子体机床中进行加工，检测加工后元件面形，若符合加工要求则完成加工；若不符合加工要求则重复步骤四直至达到加工要求。

2.如权利要求1所述的一种用于熔石英玻璃的大气等离子体抛光方法，其特征在于：可以抛光平面以及各种自由曲面光学元件。