[发明专利]一种超构表面光学透镜和成像装置在审
| 申请号： | 202011240953.7 | 申请日： | 2020-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN112379469A | 公开（公告）日： | 2021-02-19 |
| 发明（设计）人： | 胡跃强;张建;段辉高;李苓;宋强;马国斌;徐晓波 | 申请（专利权）人： | 湖南大学;深圳珑璟光电科技有限公司;湖南大学深圳研究院 |
| 主分类号： | G02B3/00 | 分类号： | G02B3/00;G02B1/00 |
| 代理公司： | 深圳市六加知识产权代理有限公司 44372 | 代理人： | 孟丽平 |
| 地址： | 410082*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 表面 光学 透镜 成像 装置 | ||
1.一种超构表面光学透镜，其特征在于，包括：介质衬底和设置于所述介质衬底的电介质纳米结构；
所述电介质纳米结构包括至少两个呈圆形排列的电介质纳米结构阵列，所述电介质纳米结构阵列包括至少一个电介质纳米柱；
同一所述电介质纳米结构阵列中的电介质纳米柱的纳米结构一致；
同一所述电介质纳米结构阵列中的电介质纳米柱的长轴尺寸和短轴尺寸一致；
同一所述电介质纳米结构阵列中的电介质纳米柱在所述介质衬底表面的面内角度一致。
2.根据权利要求1所述的超构表面光学透镜，其特征在于，所述电介质纳米柱的高度一致。
3.根据权利要求1或2所述的超构表面光学透镜，其特征在于，所述介质衬底的厚度为0.5mm-5mm。
4.根据权利要求1或2所述的超构表面光学透镜，其特征在于，所述介质衬底为氧化铟锡导电玻璃、石英衬底、氧化硅衬底、硅衬底和金刚石衬底中的至少一种。
5.根据权利要求1或2所述的超构表面光学透镜，其特征在于，所述电介质纳米柱的高度为200nm-2000nm。
6.根据权利要求1或2所述的超构表面光学透镜，其特征在于，所述电介质纳米柱的结构为矩形纳米结构、v型纳米结构、不对称十字形纳米结构和工字形纳米结构的至少一种。
7.根据权利要求1或2所述的超构表面光学透镜，其特征在于，所述电介质纳米柱的材料为氧化钛、氧化铪、氧化硅、硅、金属银、金属金和氮化硅中的至少一种。
8.一种成像装置，其特征在于，包括如权利要求1-7任一项所述的超构表面光学透镜。
9.根据权利要求8所述的成像装置，其特征在于，所述成像装置还包括第一偏振片、第二偏振片；其中，所述第一偏振片、所述超构表面光学透镜和所述第二偏振片从物侧到像侧沿同一光轴依次设置，所述超构表面光学透镜的介质衬底侧靠近所述物侧，所述超构表面光学透镜的电介质纳米结构侧靠近所述像侧。
10.根据权利要求9所述的成像装置，其特征在于，所述第一偏振片和所述第二偏振片均为圆形。
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