[发明专利]单片集成级联量子阱宽调谐中红外激光器及制备方法在审

专利信息
申请号: 202011242900.9 申请日: 2020-11-09
公开(公告)号: CN112366514A 公开(公告)日: 2021-02-12
发明(设计)人: 张一;牛智川;张宇;徐应强;杨成奥;谢圣文;邵福会;尚金铭 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: H01S5/065 分类号: H01S5/065;H01S5/12;H01S5/343;H01S5/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 周天宇
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 单片 集成 级联 量子 调谐 红外 激光器 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种单片集成级联量子阱宽调谐中红外激光器,其特征在于,包括:

衬底(110)、下限制层(120)、下波导层(130)、量子阱级联区(140)、上波导层(150)、上限制层(160)及盖层(170),其中,所述量子阱级联区(140)由多组不同发光波长的量子阱(141)和级联区(142)组成;

所述盖层(170)及上波导层(150)之间设有分布反馈式采样光栅区(210)、有源增益区(220)、光束耦合区(230)及输出区(240),其中,分布反馈式采样光栅区(210)用于对所述激光器产生的不同波长的光分别进行调谐,使所述不同波长的光依次经过所述有源增益区(220)、光束耦合区(230)后,形成宽调谐的单横模激光。

2.根据权利要求1所述的激光器,其特征在于,所述不同发光波长的量子阱(141)的材料至少包括InxGa1-xSb或InxGa1-xAsySb1-y,各不同不同发光波长的量子阱(141)的材料的x组分及材料厚度不同。

3.根据权利要求2所述的激光器,其特征在于,所述级联区(142)的材料至少包括InAs/AlSb超晶格。

4.根据权利要求1所述的激光器,其特征在于,所述衬底(110)的材料包括N型掺杂的GaSb,所述下限制层(120)、上限制层(160)、下波导层(130)、上波导层(150)的材料均包括AlxGa1-xAsySb1-y,其中,各层材料的x组分和y组分不同及各层的厚度均不同。

5.根据权利要求1所述的激光器,其特征在于,所述分布反馈式采样光栅区(210)包括多条采样光栅,各条所述采样光栅分别用于对不同波长的光进行采样和调谐。

6.根据权利要求5所述的激光器,其特征在于,所述有源增益区(220)包括多条条形波导,分别与所述采样光栅一一对应连接。

7.根据权利要求6所述的激光器,其特征在于,所述光束耦合区(230)包括多个S型二叉树状波导(231)和一个平板型波导(232),所述S型二叉树状波导(231)的输入端依次与所述条形波导的输出端连接,输出端与所述平板型波导(232)连接。

8.根据权利要求1所述的激光器,其特征在于,所述激光器表面沉积有绝缘层。

9.根据权利要求8所述的激光器,其特征在于,所述激光器还包括N面电极和P面电极,所述N面电极设于所述衬底(110)未生长所述下限制层(120)的一侧,所述P面电极设于所述有源增益区(220)表面的绝缘层上。

10.一种单片集成级联量子阱宽调谐中红外激光器的制备方法,应用于如权利要求1-9所述的单片集成级联量子阱宽调谐中红外激光器,其特征在于,包括:

在衬底(110)上依次生长下限制层(120)、下波导层(130)、量子阱级联区(140)、上波导层(150)、上限制层(160)及盖层(170),形成外延片;

在所述盖层(170)上进行第一版光刻,并刻蚀形成有源增益区(220)、光束耦合区(230)及输出区(240);

在所述盖层(170)上进行第二版光刻,并刻蚀形成分布反馈式采样光栅区(210);

在所述外延片表面沉积一层绝缘层;

在所述有源增益区(220)的绝缘层智商制备P面电极,在所述衬底(110)未生长所述下限制层(120)的一侧制备N面电极。

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