[发明专利]一种掩膜版及其制作方法、显示基板及其制作方法

说明书

本发明提供了一种掩膜版及其制作方法、显示基板及其制作方法，涉及显示技术领域，该掩膜版能够大幅减轻灰尘造成的影响，从而提升产品良率。一种掩膜版，包括掩膜部和围绕所述掩膜部的周边部；其中，所述掩膜部包括至少一个掩膜单元，所述掩膜单元包括开口和围绕所述开口的第一本体；所述周边部中至少部分区域的厚度大于所述掩膜部的厚度，且被配置为与待成膜基板相接触，并支撑所述待成膜基板，使得所述掩膜部与所述待成膜基板之间具有间隙。本发明适用于掩膜版的制作。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种掩膜版及其制作方法、显示基板及其制作方法。

背景技术

采用蒸镀工艺制作Micro LED(Micro-Light Emitting Diode，微型发光二极管)微显示装置中的有机物和阴极时，需要使用蒸镀掩膜版(Open Mask)。在蒸镀时，蒸镀掩膜版本身粘附的灰尘(Particle)以及蒸镀过程中产生的灰尘都将直接影响产品良率。如果灰尘附着在显示装置的显示区时，则会产生显示不良；如果附着在显示装置的非显示区时，则容易造成封装失效。

发明内容

本发明的实施例提供一种掩膜版及其制作方法、显示基板及其制作方法，该掩膜版能够大幅减轻灰尘造成的影响，从而提升产品良率。

为达到上述目的，本发明的实施例采用如下技术方案：

一方面，提供了一种掩膜版，包括掩膜部和围绕所述掩膜部的周边部；

其中，所述掩膜部包括至少一个掩膜单元，所述掩膜单元包括开口和围绕所述开口的第一本体；

所述周边部中至少部分区域的厚度大于所述掩膜部的厚度，且被配置为与待成膜基板相接触，并支撑所述待成膜基板，使得所述掩膜部与所述待成膜基板之间具有间隙。

可选的，所述周边部包括第二本体和多个支撑件；

其中，所述支撑件设置在所述第二本体靠近所述待成膜基板的一侧；所述第二本体和所述第一本体的厚度相同。

可选的，所述支撑件包括支撑垫片，所述支撑垫片的厚度范围为90-110μm。

可选的，所述掩膜部的边缘与所述周边部形成台阶。

可选的，所述台阶的高度范围为40-100μm。

另一方面，提供了一种显示基板，包括：衬底以及设置在所述衬底之上的膜层图案，所述膜层图案采用上述所述的掩膜版形成。

再一方面，提供了一种掩膜版的制作方法，包括：

形成掩膜部和围绕所述掩膜部的周边部；其中，所述掩膜部包括至少一个掩膜单元，所述掩膜单元包括开口和围绕所述开口的第一本体；所述周边部中至少部分区域的厚度大于所述掩膜部的厚度，且被配置为与待成膜基板相接触，并支撑所述待成膜基板，使得所述掩膜部与所述待成膜基板之间具有间隙。

可选的，所述周边部包括第二本体和多个支撑件；

所述形成掩膜部和围绕所述掩膜部的周边部包括：

形成掩膜部和所述第二本体；

形成多个支撑件。

可选的，在所述形成多个支撑件之后，所述形成掩膜部和围绕所述掩膜部的周边部还包括：

采用激光点焊工艺将多个所述支撑件固定在所述第二本体上。

可选的，所述形成掩膜部和围绕所述掩膜部的周边部包括：

形成掩膜版材，其中，所述掩膜版材包括掩膜区和围绕所述掩膜区的周边区；

对所述掩膜区进行刻蚀，得到掩膜部和围绕所述掩膜部的周边部，其中，所述掩膜部的边缘与所述周边部形成台阶。