[发明专利]显示面板的制备方法及显示面板在审
申请号: | 202011243889.8 | 申请日: | 2020-11-10 |
公开(公告)号: | CN112420617A | 公开(公告)日: | 2021-02-26 |
发明(设计)人: | 张锋 | 申请(专利权)人: | 武汉华星光电半导体显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L21/84 | 分类号: | H01L21/84;H01L27/12;G06K9/00;G09F9/33;G09F9/35 |
代理公司: | 深圳紫藤知识产权代理有限公司 44570 | 代理人: | 高杨丽 |
地址: | 430079 湖北省武汉市东湖新技术*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 显示 面板 制备 方法 | ||
1.一种显示面板的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
S10:提供衬底基板;
S11:在所述衬底基板上制备驱动电路层,其中,所述驱动电路层包括至少两个薄膜晶体管,依次沉积并蚀刻形成图案化的所述薄膜晶体管的有源层、第一栅极层、第二栅极层以及层间介质层,并在所述薄膜晶体管对应位置上蚀刻并形成多个第一过孔结构;
S12:在所述驱动电路层上沉积并刻蚀形成图案化的第一电极层,并在所述第一电极层上制备第一平坦化层,在所述第一平坦化层上蚀刻形成多个第二过孔结构,并在所述第一平坦化层上沉积并蚀刻形成第二电极层;
S13:在所述第二电极层上制备第一钝化层,在所述第一钝化层一侧蚀刻形成第一开口,并在所述第一开口对应区域内制备指纹识别模组;
S14:在所述第一钝化层上制备第二钝化层,并在所述第一钝化层和第二钝化层上蚀刻形成第三过孔结构,在所述第二钝化层和所述指纹识别模组上沉积氧化铟锡膜层;
S15:在所述第二钝化层上沉积第二平坦化层,在所述第二平坦化层上沉积像素定义层,并在所述像素定义层的一侧蚀刻形成第二开口,在所述第二开口区域内蚀刻并形成第四过孔结构。
2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述步骤S11中,所述薄膜晶体管包括第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管,将所述第一薄膜晶体管的第二栅极层设置在所述第一薄膜晶体管的第一栅极层的一侧,将所述第二薄膜晶体管的第二栅极层设置在所述第二薄膜晶体管的第一栅极层的正上方对应位置处。
3.根据权利要求2所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述第一薄膜晶体管的第二栅极层设置在所述第一薄膜晶体管和所述第二薄膜晶体管之间区域内。
4.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述第一电极层包括所述薄膜晶体管的源极和漏极,所述源极和漏极通过所述第一过孔与所述有源层电连接。
5.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述步骤S13中,所述指纹识别模组包括第一膜层、第二膜层和第三膜层;
在所述第一开口对应的所述第二电极层上沉积所述第一膜层,并使所述第一膜层的两侧延伸至所述第一开口区域外;
在所述第一膜层上沉积所述第二膜层,并在所述第二膜层上沉积所述第三膜层。
6.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法,其特征在于,所述第二钝化层的高度小于所述指纹识别模组的高度。
7.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法,其特征在于,还包括步骤:
在所述第二开口内沉积第三电极层;
在所述第三电极层上沉积发光层;
在所述发光层上沉积封装层。
8.一种显示面板,其特征在于,所述显示面板包括:
衬底基板;
驱动电路层,所述驱动电路层设置在所述衬底基板上,所述驱动电路层包括至少两个薄膜晶体管,所述薄膜晶体管包括有源层、第一栅极层、第二栅极层、第一过孔以及层间介质层;
第一电极层,所述第一电极层设置在所述驱动电路层上,所述第一电极层通过所述第一过孔与所述有源层电连接;
第一平坦化层,所述第一平坦化层设置在所述第一电极层上,所述第一平坦化层上还设置有多个第二过孔;
第二电极层,所述第二电极层设置在所述第一平坦化层上,且所述第二电极通过所述第二过孔与所述第一电极层电连接;以及
钝化层,所述钝化层设置在所述第二电极层上;
其中,所述钝化层的一侧设置有第一开口,所述第一开口对应设置在所述第二电极层上,且所述第一开口内设置有指纹识别模组,所述指纹识别模组通过所述第二电极层与所述驱动电路层电连接;所述第二栅极层与所述第一电极层形成一电容结构;
所述指纹识别模组被配置成用以接收光迅号并产生光生载流子,所述电容结构被配置成用以存储所述光生载流子,所述驱动电路层开启时,所述驱动电路层将所述电容结构内存储的电荷输出,并实现指纹识别。
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