[发明专利]一种液体涂覆装置在审

专利信息
申请号: 202011244587.2 申请日: 2020-11-10
公开(公告)号: CN112517297A 公开(公告)日: 2021-03-19
发明(设计)人: 张存 申请(专利权)人: 芯米(厦门)半导体设备有限公司
主分类号: B05B16/20 分类号: B05B16/20;B05B9/04;B05B13/02;B08B1/00;B08B1/04;B08B15/04
代理公司: 厦门仕诚联合知识产权代理事务所(普通合伙) 35227 代理人: 吴圳添
地址: 361000 福建省厦门市火炬*** 国省代码: 福建;35
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 液体 装置
【说明书】:

一种液体涂覆装置,包括机架、驱动电机、旋转杆以及喷涂箱,所述机架内置工作空腔,所述工作空腔前端设置密封门,所述机架顶端设置驱动电机,所述旋转杆顶端与驱动电机输出端连接,所述旋转杆底端穿过机架侧壁伸入工作空腔内,所述旋转杆底端设置定位板,所述定位板底端设置两组固定板,所述固定板左侧连接第一限位板,所述固定板右侧设置通槽,所述通槽内滑动设置夹持板,所述通槽内设置复位弹簧,所述复位弹簧一端与通槽左侧侧壁连接,复位弹簧另一端与夹持板连接,所述夹持板远离复位弹簧一侧伸出通槽且夹持板与定位板滑动连接,所述夹持板右端连接第二限位板。

技术领域

发明涉及半导体行业晶片处理设备技术领域,具体为一种液体涂覆装置。

背景技术

用于半导体集成电路制造的基板多为4~12英寸圆形晶片。传统的液体涂覆装置通常采用在一个圆形腔体,中心设置可旋转的圆形承片台,圆形晶片采用真空吸附在承片台上的方式进行处理。这种方法可以得到均匀的液体涂布效果,在半导体行业广泛应用;但这种方式应用到方形晶片中,由于自身形状及环境气流的影响,方形晶片的液体涂覆极不均匀,晶片四角的很大区域不能达到工艺要求,造成浪费。

发明内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足,本发明提供了一种涂覆效果好的液体涂覆装置。

(二)技术方案

为实现上述目的,本发明提供如下技术方案:一种液体涂覆装置,包括机架、驱动电机、旋转杆以及喷涂箱,所述机架内置工作空腔,所述工作空腔前端设置密封门,所述机架顶端设置驱动电机,所述旋转杆顶端与驱动电机输出端连接,所述旋转杆底端穿过机架侧壁伸入工作空腔内,所述旋转杆底端设置定位板,所述定位板底端设置两组固定板,所述固定板左侧连接第一限位板,所述固定板右侧设置通槽,所述通槽内滑动设置夹持板,所述通槽内设置复位弹簧,所述复位弹簧一端与通槽左侧侧壁连接,复位弹簧另一端与夹持板连接,所述夹持板远离复位弹簧一侧伸出通槽且夹持板与定位板滑动连接,所述夹持板右端连接第二限位板,所述工作空腔底端设置喷涂箱,所述喷涂箱顶端设置水泵,所述工作空腔位于第一限位板左侧设置喷嘴,所述水泵输入端与喷涂箱连通,所述水泵输出端与喷嘴连通。在使用时,首先将夹持板以及第二限位板向右拉出,之后将晶片的上半部分放置在固定板之间的凹槽内,之后松开夹持板,通过固定板、夹持板、第一限位板以及第二限位板将晶片的上半部分固定住,之后控制驱动电机工作,驱动电机带动晶片旋转,同时控制水泵工作,将喷涂箱内的液体输送到喷嘴处,之后通过喷嘴向晶片表面喷出水雾,从而完成对晶片下半部分的涂覆,涂覆效果好,等晶片下半部分的液体固化后,将晶片颠倒,将晶片的下半部分放入固定板之间的凹槽内,重复以上步骤,完成晶片整体的涂覆。

为了在液体涂覆前对晶片进行清洁,防止晶片表面的灰尘对涂覆产生影响,本发明改进有,所述工作空腔顶端转动设置螺纹杆,所述机架一侧设置控制电机,所述控制电机输出端与螺纹杆连接,所述螺纹杆一侧设置导向杆,所述导向杆前后两侧套装控制板,所述控制板一侧设置螺纹孔,前后两侧控制板的螺纹孔螺纹方向相反,所述螺纹孔套装在螺纹杆上,所述控制板与夹持板对应位置转动设置清洁杆,所述清洁杆靠近夹持板一侧设置清洁刷头,所述控制板远离夹持板一侧设置清洁电机,所述清洁电机输出端与清洁杆连接。

为了及时排出工作空腔内清洁过后的灰尘,本发明改进有,所述机架顶端设置气泵,所述工作空腔位于第二限位板右侧设置吸尘口,所述气泵输入端与吸尘口连接,所述气泵输出端与外界环境连通。

为了便于观察涂覆过程,本发明改进有,所述密封门上设置观察窗。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于芯米(厦门)半导体设备有限公司,未经芯米(厦门)半导体设备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011244587.2/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top