[发明专利]光刻胶收集装置自动清洗系统在审
申请号: | 202011245774.2 | 申请日: | 2020-11-10 |
公开(公告)号: | CN112495922A | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
发明(设计)人: | 吴永利 | 申请(专利权)人: | 芯米(厦门)半导体设备有限公司 |
主分类号: | B08B3/12 | 分类号: | B08B3/12;B08B3/14;B08B13/00;B08B9/093 |
代理公司: | 厦门仕诚联合知识产权代理事务所(普通合伙) 35227 | 代理人: | 吴圳添 |
地址: | 361000 福建省厦门市火炬*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光刻 收集 装置 自动 清洗 系统 | ||
1.一种光刻胶收集装置自动清洗系统,其特征在于:包括清洗液罐(1)、收集装置(2)、集液箱(3)、导液管(5)、第一泵体(6)、超声波清理装置(8)、滤网(10)、循环管(11)、PLC控制系统(13)、触摸屏(14)和喷嘴(16),所述清洗液罐(1)顶端设置有进液口(4),所述清洗液罐(1)右侧上设置有所述导液管(5);所述导液管(5)一端与所述清洗液罐(1)相通,另一端设置有第一泵体(6);所述第一泵体(6)一端设置有输送管(7),所述输送管(7)穿过所述收集装置(2)外壳以设置在所述收集装置(2)内部,所述收集装置(2)顶端设置有箱盖(19),箱盖(19)底部设置有密封垫(21),所述箱盖(19)上左侧设置有合页(20),箱盖上设置有电磁锁(22),所述输送管(7)上设置有通管(15),所述通管(15)底端设置有喷嘴(16);所述收集装置(2)内部侧壁设置有超声波清理装置(8);所述收集装置(2)右侧设置有排液管(9),所述排液管(9)一端与所述收集装置(2)相通,另一端与所述集液箱(3)相通;所述集液箱(3)内部设置于滤网(10),集液箱(3)底端左侧设置有所述循环管(11),所述循环管(11)上设置有第二泵体(12)。
2.根据权利要求1所述的光刻胶收集装置自动清洗系统,其特征在于:所述收集装置(2)上设置有观察口(17),观察口一侧设置有PLC控制系统(13)。
3.根据权利要求2所述的光刻胶收集装置自动清洗系统,其特征在于:所述PLC控制系统(13)上设置有触摸屏(14),所述PLC控制系统(13)与所述触摸屏(14)电性连接,所述电磁锁(22)与PLC控制系统(13)电性连接。
4.根据权利要求1所述的光刻胶收集装置自动清洗系统,其特征在于:所述收集装置(2)底端设置有导流板(18)。
5.根据权利要求1所述的光刻胶收集装置自动清洗系统,其特征在于:所述超声波清理装置(8)设置在所述收集装置(2)内部的至少两侧侧壁。
6.根据权利要求1所述的一种光刻胶收集装置自动清洗系统,其特征在于:所述喷嘴(16)设置有多个,并等间距的通过所述通管(15)设置在所述输送管(7)上。
7.根据权利要求2所述的光刻胶收集装置自动清洗系统,其特征在于:所述第一泵体(6)、第二泵体(12)和超声波清理装置(8)与所述PLC控制系统(13)电性连接。
8.根据权利要求4所述的光刻胶收集装置自动清洗系统,其特征在于:所述导流板(18)采用倾斜设置,并与所述排液管(9)相对应。
9.根据权利要求1所述的光刻胶收集装置自动清洗系统,其特征在于:所述清洗液罐(1)、收集装置(2)和集液箱(3)内部均设置有防锈涂层。
10.根据权利要求1-9任意一项所述的光刻胶收集装置自动清洗系统,其特征在于:所述循环管(11)的一端与所述集液箱(3)相通,另一端与所述清洗液罐(1)底部相通。
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