[发明专利]一种纳米级磁性颗粒及其制备方法

权利要求书

1.一种纳米级磁性颗粒制备方法，其特征在于，包括：

获得衬底，且所述衬底的上表面具有微米级的孔；

在所述衬底的上表面形成疏水层；

在所述疏水层的上表面形成厚度为纳米级的磁性膜层，得到处理后衬底；

分离所述处理后衬底中的所述磁性膜层，并对分离后磁性膜层进行研磨，得到纳米级磁性颗粒；

其中，所述疏水层为下述任一种膜层：

抗指纹材料层、钽膜层、镍膜层、铌膜层、铂膜层，所述抗指纹材料层为SiO₂和AF材料；

所述磁性膜层包括下述任一种或者任意组合膜层：

铁膜层、钛膜层、钴膜层、镍膜层、不锈钢膜层；

分离所述处理后衬底中的所述磁性膜层时，将所述处理后衬底竖直放置在流动的纯水固定槽中，槽底部安装有鼓泡管，所述磁性膜层与所述处理后衬底上的所述疏水层在流水压鼓泡压的作用下分离；或者，采用高温法分离所述磁性膜层。

2.如权利要求1所述的纳米级磁性颗粒制备方法，其特征在于，在所述疏水层的上表面形成厚度为纳米级的磁性膜层，得到处理后衬底之前，还包括：

利用离子轰击所述疏水层的上表面。

3.如权利要求2所述的纳米级磁性颗粒制备方法，其特征在于，所述获得衬底，且所述衬底的上表面具有微米级的孔包括：

获得基板；

对所述基板进行光刻，得到所述衬底。

4.如权利要求3所述的纳米级磁性颗粒制备方法，其特征在于，在获得基板之后，还包括：

在所述基板的上表面形成介质层；

相应的，对所述基板进行光刻，得到所述衬底包括：

对所述介质层进行光刻，得到所述衬底。

5.如权利要求4所述的纳米级磁性颗粒制备方法，其特征在于，在所述基板的上表面形成介质层包括：

利用涂胶法或者真空磁控溅射法，在所述基板的上表面形成所述介质层。

6.如权利要求5所述的纳米级磁性颗粒制备方法，其特征在于，获得基板之前，还包括：

对所述基板进行清洗。

7.如权利要求1至6任一项所述的纳米级磁性颗粒制备方法，其特征在于，在所述疏水层的上表面形成厚度为纳米级的磁性膜层包括：

利用真空磁控溅射法、涂胶法、喷涂法、印刷法中的任一种方法，在所述疏水层的上表面形成所述磁性膜层。

8.一种纳米级磁性颗粒，其特征在于，所述纳米级磁性颗粒由如权利要求1至7任一项所述的纳米级磁性颗粒制备方法得到。