[发明专利]氧化铀薄膜电镀制备方法及其电镀液配方有效
申请号: | 202011247182.4 | 申请日: | 2020-11-10 |
公开(公告)号: | CN112176379B | 公开(公告)日: | 2021-11-30 |
发明(设计)人: | 卢春林;张云望;张帅;柯博;尹强;邢丕峰;李宁;易泰民 | 申请(专利权)人: | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
主分类号: | C25D9/08 | 分类号: | C25D9/08;C25D3/02 |
代理公司: | 成都弘毅天承知识产权代理有限公司 51230 | 代理人: | 杨保刚 |
地址: | 621000*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 氧化 薄膜 电镀 制备 方法 及其 配方 | ||
本发明提供一种氧化铀薄膜电镀制备方法及其电镀液配方,本发明使用有机溶剂体系,使用硝酸铀或氯化铀或醋酸铀作为铀源,加入酸增强导电能力,使用电镀的方法,在金、铂等金属表面镀制一层覆盖完整的氧化铀薄膜。采用有机溶剂作为电镀液体系,镀液状态稳定,不易吸收空气中水分,无需在专用的手套箱中操作。该方法具有如下优点:电镀条件简单,方便控制氧化铀薄膜与基底的结合力和薄膜厚度。可直接制备出氧化铀薄膜,无需进行退火等后处理;氧化铀薄膜表面完整,无裂纹。电镀液溶剂性质稳定,价格便宜等优势;采用铀盐作为铀源,具有原料易得,化学性质稳定,不需要额外处理就易溶于有机溶液的优点。
技术领域
本发明具体涉及一种氧化铀薄膜电镀制备方法及其电镀液配方。
背景技术
铀基薄膜具有重要的用途,常见的可用于同位素生产用铀靶和中子探测器用转换靶。铀基薄膜一般采用电镀法制备,根据镀液溶剂分类,可以分为水溶液电镀、离子液电镀和有机溶液电镀。水溶液体系条件简单,但是其制备的为铀氧水合物,需要进行高温退火等后处理才能得到氧化铀,在退火过程中,薄膜容易出现裂纹脱落。离子液体系具有绿色环保、条件温和、导电性优异、电化学窗口范围宽等优点,在氧化铀薄膜制备中研究较为广泛,但是其具有缺点为铀盐合成条件苛刻、离子液成本高、需要在无水手套箱中操作等。有机溶液体系的优点在于成本低、无需专用手套箱,缺点在于其导电性差、沉积电压高。现有氧化铀薄膜制备工艺的缺点,比如制备过程较为繁琐(需要退火等后处理),电镀条件要求苛刻(需要无水环境的手套箱),薄膜质量差和成品率低(薄膜厚度不均匀和表面出现裂纹),因此急需一种氧化铀薄膜电镀制备方法以解决这一问题。
发明内容
本发明的目的在于针对现有技术的不足,提供一种氧化铀薄膜电镀制备方法及其电镀液配方,该氧化铀薄膜电镀制备方法及其电镀液配方可以很好地解决上述问题。
为达到上述要求,本发明采取的技术方案是:提供一种氧化铀薄膜电镀制备方法及其电镀液配方,该氧化铀薄膜电镀制备方法及其电镀液配方该方法采用有机醇类为溶剂并加入铀源和酸溶液;
之后进行对电镀液加温的步骤;
最后进行通电电镀的步骤。
优选的,铀源为硝酸铀酰、醋酸铀酰或氯化铀。
优选的,酸溶液为硝酸、醋酸或盐酸。
优选的,电镀液加温的温度为40℃-60℃。
优选的,电镀电源采用直流电源或脉冲直流电源,所述直流电源的电镀电压为300V-600V,所述脉冲直流电源电镀电压为200V-400V,脉冲频率为1000 Hz -3000Hz。
优选的,铀源为硝酸铀酰时,其用量为0.5-2g/L,此时酸溶液选择5%-10%的硝酸溶液1-20mL;所述铀源为醋酸铀酰,其用量为0.5-2.5g/L,此时酸溶液选择5%-10%的醋酸溶液1-20mL;所述铀源为氯化铀时,其用量为1-2.5g/L,此时酸溶液选择5%-10%的盐酸溶液1-20mL。
优选的,氧化铀镀制的阴极基底为不锈钢或金或铂材质,氧化铀镀制的阳极基底为金、铂或铂金钛网;所述阴极基底和阳极基底之间的距离为1cm至2cm。
优选的,阴极基底和阳极基底进行物理抛光、化学除油、超声清洗及烘干处理。
优选的,电镀液的加热方式为水浴或油浴加热。
该氧化铀薄膜电镀制备方法及其电镀液配方具有的优点如下:
(1)采用有机溶剂作为电镀液体系,镀液状态稳定,不易吸收空气中水分,无需在专用的手套箱中操作。
(2)电镀条件简单,通过控制镀液温度、镀液浓度和电镀电压,即可控制氧化铀薄膜与基底的结合力和薄膜厚度。
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