[发明专利]用于粉末床制作或修复的二极管激光器光纤阵列

权利要求书

1.一种用于在粉末床中形成构造的设备，所述设备包括：

二极管激光器光纤阵列，所述二极管激光器光纤阵列包括多个二极管激光器和对应于所述多个二极管激光器的多个光纤，每个光纤被配置成从相应二极管激光器接收激光束并且被配置成发射所述激光束；以及

被配置成支承粉末床或组件的支承，所述支承被配置成以离所述光纤的末端一定距离来支承所述粉末床，其中所述二极管激光器光纤阵列被配置成从所述阵列的所选光纤发射多个激光束以使所述粉末床中的粉末层的多部分同时熔融来生成期望的构造。

2.如权利要求1所述的设备，进一步包括控制器，所述控制器耦合至所述二极管激光器光纤阵列并且被配置成控制所述二极管激光器光纤阵列。

3.如权利要求2所述的设备，其中所述控制器进一步被配置成控制每个激光束的持续时间、每个二极管激光器的脉冲能量、每个二极管激光器的脉冲宽度、每个二极管激光器的平均输出功率、每个激光束的能量分布、每个激光束的功率密度、每个激光束的功率的减少的速率和/或所述光纤的末端离所述粉末床的距离当中的至少一个。

4.如权利要求1所述的设备，其中所述二极管激光器光纤阵列进一步被配置成从邻近所述构造的光纤发射激光束并且对邻近所述层的粉末加热以控制熔融粉末的冷却速率。

5.如权利要求4所述的设备，其中所述二极管激光器光纤阵列被配置成在所述层的所述多部分同时熔融之前和/或期间当中的至少一个对邻近所述层的所述粉末的所述粉末加热。

6.如权利要求1所述的设备，其中在多个线性阵列中提供所述光纤。

7.如权利要求6所述的设备，其中采用密集配置来布置所述多个线性阵列。

8.如权利要求1所述的设备，其中每个光纤包括芯、环绕所述芯的覆层和环绕所述覆层的缓冲区。

9.如权利要求8所述的设备，其中所述芯和所述覆层由硅石形成，并且其中所述芯的折射率大于所述覆层的折射率。

10.如权利要求8所述的设备，其中所述芯的直径是从大约60μm至大约105μm。

11.如权利要求8所述的设备，其中所述覆层的厚度是大约10μm。

12.如权利要求8所述的设备，其中所述缓冲区由丙烯酸盐或聚酰亚胺形成。

13.如权利要求8所述的设备，其中所述缓冲区的厚度是大约62μm。

14.如权利要求1所述的设备，其中每个光纤的直径是大约250μm。

15.如权利要求1所述的设备，其中所述光纤具有圆形横截面。

16.如权利要求1所述的设备，进一步包括：

至少一个透镜，所述至少一个透镜被配置成使所述激光束准直。

17.如权利要求1所述的设备，进一步包括：

至少一个透镜，所述至少一个透镜被配置成向所述激光束中的每个激光束提供预定发散。

18.如权利要求1所述的设备，进一步包括：

致动器，所述致动器被配置成使所述支承移动。