[发明专利]微镜结构及其制作方法、微镜阵列和探测器

权利要求书

1.一种微镜结构，其特征在于，包括：

光反射膜，其被配置为悬设于一衬底之上；

多段形变梁，其被配置为首尾依次相邻或相接地围绕在所述光反射膜的外侧以外位置或围绕位于所述光反射膜的下方位置，每段所述形变梁分别通过一个支点结构绝缘地连接至所述光反射膜的外侧上；

多个支撑柱，其被配置为分置且支撑于每两段所述形变梁的相邻或相接端点位置的下方与所述衬底的表面之间，并形成各段所述形变梁与所述衬底之间的电连接；

其中，通过向至少一段所述形变梁中通电，使所述形变梁因通电发热而产生相对于其长度方向的向上或向下方向的弯曲变形，带动与之连接的所述光反射膜的对应侧向上或向下位移，并通过对各段所述形变梁执行分别控制所形成的变形大小不同组合，实现使所述光反射膜朝向任意预定方向的偏转或/和上下浮动。

2.根据权利要求1所述的微镜结构，其特征在于，所述光反射膜为矩形，所述形变梁被配置为与所述光反射膜的边一一对应。

3.根据权利要求1所述的微镜结构，其特征在于，所述光反射膜的外侧与所述形变梁之间通过隔热层形成绝缘连接，所述隔热层被配置为其外侧上具有朝向所述形变梁方向延伸的突出，所述突出作为所述支点结构搭接于所述形变梁上，使所述光反射膜与所述形变梁之间形成连接。

4.根据权利要求3所述的微镜结构，其特征在于，所述光反射膜覆于所述隔热层的表面上；或者，所述光反射膜通过其外侧嵌于框形的所述隔热层的内框中。

5.根据权利要求3所述的微镜结构，其特征在于，所述突出唯一地配置于每段所述形变梁与所述光反射膜的对应侧之间，并连接于所述形变梁的梁长方向上的中部。

6.根据权利要求1所述的微镜结构，其特征在于，所述形变梁为上下叠设的多层叠层结构，所述叠层结构包括发热电阻层、第一形变层和第二形变层；其中，所述第一形变层材料具有第一热膨胀系数，所述第二形变层材料具有第二热膨胀系数，所述第一热膨胀系数与所述第二热膨胀系数之间的相对大小不同。

7.一种微镜结构制作方法，其特征在于，包括以下步骤：

提供一衬底，在所述衬底上形成CMOS电路；

在所述衬底的表面上形成牺牲层并图形化；

在所述牺牲层上形成连通至所述CMOS电路的多个通孔，并在所述通孔内填充金属，形成导电支撑柱结构；

在所述牺牲层的表面上依次形成发热电阻层、第一形变层和第二形变层，并图形化，形成具有上下叠设的叠层结构的多段形变梁，并使各段所述形变梁按首尾依次相邻或相接方式形成环形排列，且使每两段所述形变梁的相邻或相接端点接触设于一个对应的所述导电支撑柱上；

在所述牺牲层的表面上形成介质隔热层，并图形化，在由各段所述形变梁所围成区域以内的所述牺牲层的表面上形成隔热层图形，并使形成的所述隔热层图形外侧上具有搭接至所述形变梁中部上的一个突出，作为支点结构；

在所述隔热层图形的表面上形成光反射膜图形；

通过释放工艺去除所述牺牲层，形成悬空的微镜结构。

8.根据权利要求7所述的微镜结构制作方法，其特征在于，所述第一形变层材料具有第一热膨胀系数，所述第二形变层材料具有第二热膨胀系数，所述第一热膨胀系数与所述第二热膨胀系数之间的相对大小不同。

9.一种微镜阵列，其特征在于，具有多个权利要求1-6任意一项所述的微镜结构，所述微镜结构在衬底上按行列方式依次排列形成微镜阵列，其中，任意一个所述微镜结构被配置为独立于其他微镜结构执行朝向任意预定方向的偏转或/和上下浮动。

10.一种探测器，其特征在于，具有权利要求1-6任意一项所述的微镜结构；或者，具有权利要求9所述的微镜阵列。