[发明专利]一种纳滤膜的制造方法及装置

权利要求书

1.一种纳滤膜的制造装置，其特征在于，包括基膜制造装置，所述的基膜制造装置用于制造平板式基膜，包括：

储液罐，用于存储涂覆液；

狭缝喷涂模头，用于向基膜（10）的表面施加涂覆液，狭缝喷涂模头与储液罐之间通过计量泵（1）连接；

狭缝喷涂模头包括：

上膜唇主体部分（2）和下膜唇主体部分（3），相互之间形成窄缝，窄缝的一端为涂覆液进口（6），另一端为涂覆液出口（8）；在下膜唇主体部分（3）朝向窄缝的一侧还开设带搅拌器的分配腔（7），分配腔（7）为条状，且与基膜（10）的进给方向垂直；在涂覆液进口（6）与上膜唇主体部分（2）之间设隔离部件（4），用于阻止涂覆液朝着涂覆液出口（8）的反向流动；

还包括：界面聚合反应单元，包括：

水相涂覆单元，用于对所述的基膜制造装置得到的基膜进行水相溶液的涂覆；

油相涂覆头，用于对涂覆了水相溶液的基膜进行油相溶液的涂覆并进行界面聚合反应；

所述的油相涂覆模头中包括上膜唇结构（17）和下膜唇结构（18），相互之间形成窄缝，窄缝的一端为油相溶液进口（19），另一端为油相溶液出口（21）；在下膜唇结构（18）朝向窄缝的一侧还开设有分配槽（20），分配腔为条状，且与基膜的进给方向垂直；分配槽（20）的数量为至少一条。

2.根据权利要求1所述的纳滤膜的制造装置，其特征在于，还包括：气动装置（5），连接于狭缝喷涂模头，用于对狭缝喷涂模头的位置进行限制；

还包括：涂覆辊（9）和牵引辊用于拉动平板式的基膜（10）进给运动，狭缝喷涂模头将涂覆液施加于位于涂覆辊（9）表面的基膜（10）上；

还包括：相变槽，用于对狭缝喷涂模头施加了涂覆液的基膜（10）进行相转化处理；还包括：清洗槽，用于对相变槽处理后的基膜（10）进行清洗处理。

3.根据权利要求2所述的纳滤膜的制造装置，其特征在于，还包括：张力传感器，用于对清洗槽中得到基膜进行张力测定；还包括：纠偏传感装置，用于对基膜进行纠偏。

4.根据权利要求1所述的纳滤膜的制造装置，其特征在于，所述的水相涂覆单元包括：水相涂覆槽（12），用于存放水相溶液；在水相涂覆槽（12）上方设水相涂覆辊（11），用于将基膜浸入水相涂覆槽（12）中；还包括风刀（13），用于对离开水相涂覆槽（12）的基膜的表面进行吹扫，去除多余的水相溶液；

水相涂覆槽（12）可以在水相涂覆槽（12）中上下移动，并且水相涂覆单元的数量为两个以上，基膜在水相涂覆单元之间依次通过并涂覆水相溶液，每组涂覆单元整体可以通过滑轨（14）水平移动；

分配槽（20）至少三条；

所述的油相涂覆模头还包括：油相溶液风刀（23），用于对从油相溶液涂覆辊（22）上得到的基膜进行多余油相溶液吹扫处理；

油相溶液出口（21）和油相溶液涂覆辊（22）之间的距离50-500μm；

所述的油相溶液出口（21）与水平方向的夹角范围是0-90°。

5.一种纳滤膜的制造方法，其特征在于，包括基膜的制造步骤，采用权利要求1所述的纳滤膜的制造装置，包括以下步骤：

配制涂覆液；

通过涂覆辊（9）和牵引辊拉动基膜（10）进给运动；

将涂覆液送入所述的狭缝喷涂模头中，并将涂覆液从涂覆液出口（8）排出，施加于涂覆辊（9）表面的基膜（10）上；

将施加了涂覆液的基膜依次经过相转化和清洗，得到带分离层的基膜。

6.根据权利要求5所述的纳滤膜的制造方法，其特征在于，所述的涂覆液的制备方法包括：将有机溶剂、致孔剂、聚合物的顺序依次加入到密闭搅拌罐中，在恒定温度搅拌后，静置脱泡得到透明的铸膜液；所述的聚合物是聚醚砜，聚砜，聚丙烯腈、聚偏氟乙烯中的一种。