[发明专利]显示面板制造方法及显示面板

说明书

本发明公开了一种显示面板制造方法及显示面板。本发明实施例提供一种显示面板的制造方法，包括：提供阵列基板，具有第一区域和第二区域；在所述阵列基板上形成用于注入空穴的第一电极层，在所述第一电极层上形成形成具有像素开口的像素定义层和具有二维图案的牺牲层，所述牺牲层的图案覆盖第一区域；在所述牺牲层和有机发光层上形成第二电极层，并且从所述有机发光材料发出的光可穿透所述第二电极层；以牺牲层的二维图案为模板对应所述第一区域进行图案化处理所述第二电极层以形成与二维图案互补的图形化阴极。根据本发明实施例的显示面板的制造方法，能够保护有机发光层在后续刻蚀工艺中不受激光损伤。

技术领域

本发明涉及显示领域，具体涉及一种显示面板制造方法及显示面板。

背景技术

随着手机等包括显示面板和摄像头的消费电子产品的发展，人们对这些电子产品的视觉体验性方面有更高的要求，用户对屏占比的要求越来越高，使得电子设备的全面屏显示受到业界越来越多的关注。

传统的电子设备如手机、平板电脑等，由于需要集成诸如前置摄像头、听筒以及红外感应元件等。传统的设备通过在显示屏上设置透光区，外界光线可通过屏幕上的透光区进入位于屏幕下方的感光元件。然而，由于透光区的存在，导致电子设备需要设置Notch异形区，如苹果手机iphoneX的前刘海区域，而且透光区无法显示像素，影响显示面板的屏占比提升。

发明内容

本发明提供一种显示面板及其制造方法，能够形成透明显示区，所述透明显示区具有图形化的阴极，形成图形化阴极的同时，避免了激光刻蚀过程中对阴极附近或者背面的膜层的损伤。

第一方面，本发明实施例提供一种显示面板的制造方法，其特征在于，包括：

S1)提供阵列基板，具有第一区域和第二区域；

S2)在所述阵列基板上形成用于注入空穴的第一电极层，在所述第一电极层上形成具有像素开口的像素定义层和具有二维图案的牺牲层，所述牺牲层的图案覆盖第一区域；所述牺牲层与第一电极层分别在所述阵列基板上的投影至少部分不交叠；

S3)在像素开口内形成包含有机发光材料的有机发光层；

S4)在所述牺牲层和有机发光层上形成第二电极层，并且从所述有机发光材料发出的光可穿透所述第二电极层；以牺牲层的二维图案为模板对应所述第一区域进行图案化处理所述第二电极层以形成与二维图案互补的图形化阴极。

根据本发明实施例的一个方面，S2)在所述阵列基板上形成用于注入空穴的第一电极层，在所述第一电极层上形成具有像素开口的像素定义层和具有二维图案的牺牲层，所述牺牲层的图案覆盖第一区域；所述牺牲层与第一电极层分别在所述阵列基板上的投影至少部分不交叠的步骤中，

所述牺牲层在所述阵列基板上对应所述第一区域形成；

所述牺牲层覆盖所述像素定义层背向所述阵列基板一侧表面形成，其中，所述像素定义层是透光的。

根据本发明实施例的一个方面，所述牺牲层为图案化处理形成的具有镂空图案的图案化牺牲层；

根据本发明实施例的一个方面，所述牺牲层选用耐热的透明材料；优选的，所述牺牲层选用耐热的无机膜层；

根据本发明实施例的一个方面，所述牺牲层选用氧化硅、氮化硅、氧化铝的无机材料单层膜层或者选自氧化硅、氮化硅、氧化铝的无机材料单层膜层的复合层叠结构；优选的，所述牺牲层选自透明光刻胶材料；

根据本发明实施例的一个方面，所述牺牲层是通过磁控溅射法、化学气相沉积(CVD)法、喷雾热分解法、喷雾热分解法或水热法在所述阵列基板上对应所述第一区域形成，或采用溶液法直接涂敷或者打印所述牺牲层到所述阵列基板上。

根据本发明实施例的一个方面，所述牺牲层呈二维图案，所述二维图案的最小线宽大于等于激光的最小激光光斑直径。