[发明专利]过滤杂射X射线的滤线栅及其制备方法、X射线探测器

权利要求书

1.一种过滤杂射X射线的滤线栅的制备方法，其特征在于，包括：

将金属粉末材料、粘结剂、分散剂、消泡剂及溶剂中的两种或两种以上相混合以制备成浆料，将所述浆料涂布于基材上形成X射线吸收材料层后进行干燥，其中，所述浆料中，所述金属粉末材料的质量百分比为1～80％，所述粘结剂的质量百分比为1～60％，所述分散剂的质量百分比为0～20％，所述消泡剂的质量百分比为0～20％，所述溶剂的质量百分比为1～80％。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述金属粉末材料包括纳米级的钨、铋、钼、铅、锑和锡中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述粘结剂包括聚丙烯酰胺、丙烯酸树脂、环氧树脂和硅烷偶联剂中的一种或多种。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述分散剂包括聚酯磷酸酯、羧甲基纤维素钠和十二烷基苯磺酸钠中的一种或多种。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述溶剂包括离子水、乙醇、乙二醇、丙酮、异丙醇、1，3丁二醇、苯、甲苯和二甲苯中的一种或多种。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，采用辊涂覆、丝网印刷和挤压涂覆方法中的一种或多种将所述浆料涂布于基材上形成所述X射线吸收材料层。

7.根据权利要求1-6任一项所述的制备方法，其特征在于，所述基材包括铝箔。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述铝箔的厚度为40～150μm，所述X射线吸收材料层的厚度为5～50μm。

9.一种过滤杂射X射线的滤线栅，其特征在于，所述滤线栅包括无聚焦效果的平行栅和具有焦点的聚焦栅中的一种，所述滤线栅基于权利要求1-8任一项所述的制备方法制备而成，所述滤线栅的线密度≥80L/cm。

10.一种X射线探测器，其特征在于，所述X射线探测器包括如权利要求9所述的过滤杂射X射线的滤线栅。