[发明专利]一种用于处理基站天线金属反射板的系统、方法及脱胶剂

权利要求书

1.一种用于处理基站天线金属反射板的系统，其中，PET薄膜通过胶体粘附于所述反射板表面，其特征在于，所述系统包括用于携带所述反射板行进的输送单元及设于所述输送单元行进路径上的第一处理单元，所述第一处理单元用于剥离粘附于所述反射板上的PET薄膜；所述第一处理单元包括沿所述输送单元行进路径依次设置的软化单元和剥离单元，所述软化单元包括脱胶剂，所述脱胶剂由混合烷、混合醇、混合酸以及纯净水组成，其中，各组分的质量分数分别为：混合烷50％～70％、混合醇5％～20％、混合酸10％～25％、纯净水0.5％～5％，所述剥离单元包括剥离组件；

所述输送单元携带所述反射板行进至所述软化单元，所述软化单元中的脱胶剂与所述反射板上的胶体接触，对所述胶体做软化处理；所述输送单元进一步携带软化处理后的反射板至所述剥离单元，所述剥离单元中的所述剥离组件与所述反射板上的PET薄膜接触，剥离所述PET薄膜。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述输送单元包括可行进的输送链机构、夹具及连接所述输送链机构和所述夹具的拉索，所述夹具包括连接所述拉索的横梁、垂直设于所述横梁两侧的悬臂及分别连接两悬臂的支架，两所述支架相对设置，所述反射板的侧端面与所述支架接触，使反射板被垂直夹持于两相对的支架之间。

3.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，所述剥离组件包括固设于所述输送单元行进路径侧部的滚动毛刷，和/或，固设于所述输送单元行进路径侧部的第一喷淋组件。

4.根据权利要求1～3任一所述的系统，其特征在于，还包括设于所述输送单元行进路径上的第二处理单元，所述第二处理单元位于所述第一处理单元下游，用于处理所述反射板上的毛刺；所述第二处理单元包括吸盘和磨盘，所述吸盘和磨盘分别位于所述输送单元行走路径相对的两侧，且所述吸盘和所述磨盘均可移动的面向所述输送单元携带的所述反射板的表面。

5.一种处理基站天线金属反射板的方法，其特征在于，基于如权利要求1～4任一所述的处理基站天线金属反射板的系统，所述方法包括：脱膜处理，其中，所述脱模处理包括以下步骤：

软化处理：输送单元携带反射板行进至软化单元，将所述软化单元中的脱胶剂与所述反射板上的胶体接触，所述脱胶剂渗透软化所述胶体；

剥离处理：输送单元进一步携带软化处理后的反射板至剥离单元，将所述剥离单元中的剥离组件与反射板上的PET薄膜接触，剥离所述PET薄膜。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述软化单元中的脱胶剂与所述反射板上的胶体接触的方式包括：

将所述反射板浸泡至所述脱胶剂中，使所述脱胶剂与所述胶体接触；和/或，通过第一喷淋组件向所述反射板表面喷淋所述脱胶剂，使所述脱胶剂与所述胶体接触。

7.根据权利要求5或6所述的方法，其特征在于，所述脱胶剂与所述胶体接触的时间为5～15min。

8.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，在所述系统包括第二处理单元时，所述方法还包括步骤：

去毛刺处理：输送单元进一步携带经剥离处理的反射板至第二处理单元，通过所述第二处理单元中的吸盘吸附固定所述反射板，再使所述第二处理单元中的磨盘与所述反射板表面接触，从而去除反射板表面的毛刺。

9.一种脱胶剂，其特征在于，用于降低胶体粘附力，所述脱胶剂由混合烷、混合醇、混合酸以及纯净水组成，其中，各组分的质量分数分别为：混合烷50％～70％、混合醇5％～20％、混合酸10％～25％、纯净水0.5％～5％。

10.根据权利要求1所述的脱胶剂，其特征在于，所述脱胶剂中各组分的质量分数分别为：混合烷70％、混合醇9％、混合酸18％、纯净水3％。