[发明专利]一种地板基材、地板及其制备方法与应用

权利要求书

1.一种地板基材，其特征在于，所述地板基材的原料含有40-50wt%的木粉、20-30wt%的活性MgO、10-20wt%的MgCl₂水溶液、3-5wt%的高分子改性材料以及3-5wt%的硅氧烷改性剂；

其中，所述高分子改性材料的化学结构式为，其中，n为200-300的整数，m为200-300内的整数；所述硅氧烷改性剂的化学结构式为，其中，n为15-30内的任意整数；

所述MgCl₂水溶液中MgCl₂的浓度为10-20wt%；

所述木粉包括长木粉及短木粉，其中，长木粉过目数不超过10目的筛网而得，所述短木粉过30-50目的筛网而得，所述长木粉占所述木粉质量的35-55%，余量为所述短木粉；

所述木粉的含水率不高于15%；所述活性MgO的反应活性为60-70%；

所述活性MgO的D50＜38μm，D99＜50μm；

所述高分子改性材料的反应活性＞90%；

所述高分子改性材料的D50＜15μm，D99＜20μm；

所述硅氧烷改性剂的D50＜10μm，D99＜12μm；

所述地板基材的制备方法包括以下步骤：将混合后的所述原料进行压制；

压制包括第一次压制和第二次压制，第一次压制于30-45℃、3-5MPa的条件下进行4-12h，第二次压制于5-30℃、12-15MPa及空气湿度为50-70%的条件下进行6-8h。

2.根据权利要求1所述的地板基材，其特征在于，所述木粉的含水率为8-15%。

3.如权利要求1或2所述的地板基材的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将混合后的所述原料进行压制；

压制包括第一次压制和第二次压制，第一次压制于30-45℃、3-5MPa的条件下进行4-12h，第二次压制于5-30℃、12-15MPa及空气湿度为50-70%的条件下进行6-8h。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，压制前，将混合后的所述原料进行平铺。

5.如权利要求1或2所述的地板基材的应用，其特征在于，所述地板基材用于加工地板。

6.一种地板，其特征在于，包括如权利要求1或2所述的地板基材形成的基材层。

7.根据权利要求6所述的地板，其特征在于，所述基材层的厚度为6-10mm。

8.根据权利要求6所述的地板，其特征在于，所述地板还包括用于设置于所述基材层的表面的功能层和/或平衡层。

9.根据权利要求8所述的地板，其特征在于，当所述地板同时含有所述功能层和所述平衡层时，所述功能层和所述平衡层分别设置于所述基材层的两侧表面。

10.根据权利要求9所述的地板，其特征在于，所述功能层与所述平衡层的总厚度为0.4-0.6mm。

11.根据权利要求9所述的地板，其特征在于，所述平衡层的远离所述基材层的一侧表面设有缓冲层。

12.根据权利要求11所述的地板，其特征在于，所述缓冲层的厚度为0.8-1.2mm。

13.如权利要求6-12任一项所述的地板的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：将所述地板基材形成的基材层制备地板。

14.根据权利要求13所述的制备方法，其特征在于，当所述基材层的两侧表面分别设置功能层和平衡层时，按预设位置放置所述功能层、所述基材层以及所述平衡层并进行热压。

15.根据权利要求14所述的制备方法，其特征在于，热压于12-15MPa的条件下进行50-90s。