[发明专利]一类硼氮杂苯并联噻吩衍生物、共轭高分子聚合物及其制备方法和氟离子检测应用

权利要求书

1.一类硼氮杂苯并联噻吩衍生物，其特征在于，选自如下两种结构：

其中，

2.一类基于硼氮杂苯并联噻吩衍生物的共轭高分子聚合物，其特征在于，所述共轭高分子聚合物选自2种，分别为P1和P2，具体结构如下：

其中，n为≥2的正整数。

3.权利要求1所述的硼氮杂苯并联噻吩衍生物的合成方法，其特征在于，包括以下步骤：

1)制备化合物A或化合物B

在惰性气体保护下，把3-溴-2,2'-联噻吩、苯胺/4-己基苯胺、叔丁醇钠、三(二亚苄基丙酮)二钯和四氟硼酸三叔丁基膦溶解于绝对无水的甲苯中，得到反应物体系；

将反应物体系于90～110℃反应20～30h，减压除去溶剂，分离过柱，制得目标化合物A或化合物B；

所述化合物A或化合物B的结构如下式：

其中，R＝H为化合物A，R＝C6H13为化合物B；

2)制备化合物C或化合物D

在惰性气体保护下，把步骤1)制得的化合物A/化合物B、三乙胺和二氯苯硼烷溶解于无水1,2-二氯苯中，得到反应物体系；

将反应物体系于180～200℃反应15～20h，减压除去溶剂，分离过柱，制得目标化合物C或化合物D；

所述化合物C或化合物D的结构如下式：

其中，R＝H为化合物C，R＝C6H13为化合物D；

3)制备化合物E

在惰性气体保护下，把步骤2)制得的化合物C溶解于绝对无水四氢呋喃中，于0℃下将N-溴代琥珀酰亚胺溶解于绝对无水四氢呋喃并滴加于上述含有化合物C的溶液中，升温至室温，继续搅拌反应12～24h，减压除去溶剂，分离过柱，制得目标化合物E；

所述化合物E的结构如下式：

4)制备化合物F

在惰性气体保护下，把步骤2)制得的化合物D、联硼酸频那醇酯、4,4'-二叔丁基-2,2'-二吡啶和二(1,5-环辛二烯)二-Μ-甲氧基二铱(I)溶解于绝对无水正己烷中，得到反应物体系；

将反应物体系于60～80℃反应15～20h，过滤除去溶剂，制得目标化合物F；

所述化合物F的结构如下式：

5)制备硼氮杂苯并联噻吩衍生物G或H

在惰性气体保护下，把步骤3)制得的化合物E、三丁基苯基锡/2-三丁基甲锡烷基噻吩，三(二亚苄基丙酮)二钯和三(邻甲基苯基)磷溶解于绝对无水甲苯中，得到反应物体系；

在微波反应器中，将反应物体系于110～130℃反应2～3h，减压除去溶剂，分离过柱，制得目标化合物硼氮杂苯并联噻吩衍生物G或H；

所述硼氮杂苯并联噻吩衍生物G或H的结构如下式：

其中，为化合物G，为化合物H；

6)制备硼氮杂苯并联噻吩衍生物化合物I或J

在惰性气体保护下，把步骤4)制得的化合物F、溴苯/2-溴噻吩、甲基三辛基氯化铵、四(三苯基膦)钯和碳酸钾溶液置于绝对无水甲苯中，得到反应物体系；

在微波反应器中，将反应物体系于110～130℃反应2～3h，减压除去溶剂，分离过柱，制得目标化合物硼氮杂苯并联噻吩衍生物I或J；

所述化合物I或化合物J的结构如下式：

其中，为化合物I，为化合物J。