[发明专利]用于填充高深宽比深孔的兆声波辅助薄膜沉积设备及方法

权利要求书

1.用于填充高深宽比深孔的兆声波辅助薄膜沉积设备，用于填充深宽比大于5的深孔，其特征在于，包括：腔体、基座、支撑轴、兆声波换能器、兆声波传递层及兆声波隔绝密封环；所述基座、兆声波换能器及兆声波传递层均位于所述腔体内，且基座、兆声波换能器及兆声波传递层的中心点位于同一垂线上；所述兆声波换能器位于所述基座内，所述兆声波传递层贴置于所述兆声波换能器的上表面，待沉积的晶圆位于所述兆声波传递层的上方；所述支撑轴与所述基座相连接，且自所述腔体内部延伸到腔体外部；所述兆声波隔绝密封环位于所述腔体与所述支撑轴之间，以在实现腔体密封的同时避免兆声波传递到所述腔体上。

2.根据权利要求1所述的兆声波辅助薄膜沉积设备，其特征在于：所述兆声波换能器包括磁力换能器和压电换能器中的一种或两种。

3.根据权利要求1所述的兆声波辅助薄膜沉积设备，其特征在于：所述兆声波传递层包括静电吸盘，待沉积的晶圆贴置于所述静电吸盘的上表面，所述静电吸盘上设置有静电吸附孔。

4.根据权利要求1所述的兆声波辅助薄膜沉积设备，其特征在于：所述兆声波传递层包括圆形基板及位于所述圆形基板表面的保护层，待沉积的晶圆贴置于所述保护层的上表面，所述支撑轴穿过所述兆声波换能器和所述圆形基板。

5.根据权利要求4所述的兆声波辅助薄膜沉积设备，其特征在于：所述圆形基板的周向边缘设置有凸台，所述凸台上设置有密封圈。

6.根据权利要求1所述的兆声波辅助薄膜沉积设备，其特征在于：所述兆声波隔绝密封环的材料包括防腐橡胶、硅胶、沥青和吸音棉中的一种或多种。

7.根据权利要求1所述的兆声波辅助薄膜沉积设备，其特征在于：所述兆声波辅助薄膜沉积设备包括CVD设备和PVD设备中的一种。

8.根据权利要求1-7任一项所述的兆声波辅助薄膜沉积设备，其特征在于：所述基座的边缘周向上均匀分布有向所述基座内侧凹进的多个凹口，所述多个凹口上下贯穿所述基座；所述兆声波辅助薄膜沉积设备还包括多个校正柱，所述多个校正柱一一对应设置于所述凹口内，且所述校正柱与所述支撑轴相平行，所述校正柱的顶面具有倾斜导向面，当晶圆被所述多个校正柱支撑时，晶圆的边缘与所述倾斜导向面相接触。

9.一种兆声波辅助薄膜沉积方法，其特征在于，所述兆声波辅助薄膜沉积方法依权利要求1-8任一项所述的兆声波辅助薄膜沉积设备进行，在薄膜沉积过程中，将兆声波能量均匀传递到待沉积的晶圆上，以辅助完成晶圆上的深孔填充。

10.根据权利要求9所述的兆声波辅助薄膜沉积方法，其特征在于，所述兆声波辅助薄膜沉积方法还包括在薄膜沉积过程中，向晶圆表面供应惰性气体，通过所述惰性气体将兆声波能量均匀传递到待沉积的晶圆上，以辅助完成晶圆上的深孔填充。