[发明专利]钟表部件、包括其的钟表、其制造方法和表面处理方法

权利要求书

1.一种表面处理方法，用于由包含通过粉末冶金制造法或增材制造法获得的不规则结构的部件制造金属基和/或金属陶瓷基钟表部件，所述不规则结构为例如孔和/或析出物和/或条纹，其中所述方法包括：通过在所述部件的表面区上进行表面重熔来改善所述部件的表面光洁度的步骤；以及对所述部件的所述表面区的表面进行精加工的步骤，所述精加工的步骤在通过表面重熔来改善所述部件的表面光洁度的步骤之后执行。

2.根据权利要求1所述的表面处理方法，其中，所述部件的所述表面区包括大于或等于50μm的深度。

3.根据前述权利要求中任一项所述的表面处理方法，其中，所述部件的所述表面区包括小于或等于1000μm，或甚至小于或等于500μm，或甚至小于或等于200μm，或甚至小于或等于100μm的平均深度。

4.根据前述权利要求中任一项所述的表面处理方法，其中，所述表面处理方法包括通过先前表面准备来改变所述部件的所述表面区的吸收率的先前步骤，以便降低反射率部分，从而受益于所述表面区的能量吸收。

5.根据前述权利要求中任一项所述的表面处理方法，其中，所述先前步骤包括表面涂层形式的化学元素的沉积步骤，所述沉积步骤提供相对于所述表面区的整体组成而言小于或等于5at％的化学元素含量。

6.根据权利要求4所述的表面处理方法，其中，所述先前步骤包括以下子步骤的全部或一部分：

-化学或电解蚀刻所述表面；或者

-表面微纹理化，特别是通过喷砂、珠光处理、磨削、激光处理，以降低所述部件的所述表面区的表面的反射率。

7.根据权利要求4所述的表面处理方法，其中，所述先前步骤包括氧化、氮化、硼化、氯化、氟化或硫化处理，从而改变所述部件的所述表面区的表面的吸收率。

8.一种用于制造钟表部件的方法，其中，所述方法包括通过粉末冶金制造法或增材制造法来制造金属基和/或金属陶瓷基部件的第一步骤，并且其中，所述方法对由所述第一步骤获得的所述部件实施根据前述权利要求中任一项所述的表面处理方法。

9.一种用于钟表的金属基和/或金属陶瓷基钟表部件，其包括具有不规则结构的芯部，所述不规则结构为例如孔和/或析出物，其中，所述金属基和/或金属陶瓷基钟表部件由于涉及根据权利要求1至7中任一项所述的表面处理方法的表面重熔的表面处理而包括具有与所述芯部相比更少的不规则结构的表面区。

10.根据权利要求9所述的用于钟表的钟表部件，其中，所述钟表部件的所述芯部和所述表面区由基本上相同的材料制成。

11.根据权利要求9或10所述的用于钟表的钟表部件，其中，所述表面区包括与所述芯部相比更低的孔隙率，和/或其中，所述表面区包括与所述芯部的析出物相比密度更低和/或尺寸更小的析出物，和/或其中，所述芯部是多孔的，具有小于或等于99.5％的密度，并且其中，所述表面区具有与所述芯部相比严格更高的孔隙率和大于或等于99.9％的密度。

12.根据权利要求7至11中任一项所述的用于钟表的钟表部件，其中，所述表面区包括尺寸大于0.5μm的、小于或等于0.1％的孔隙率。

13.根据权利要求9至12中任一项所述的用于钟表的钟表部件，其中，所述表面区在大于或等于50μm的深度上延伸。

14.根据权利要求9至13中任一项所述的用于钟表的钟表部件，其中，所述表面区在小于或等于1000μm，或甚至小于或等于500μm，或甚至小于或等于200μm，或甚至小于或等于100μm的平均深度上延伸。