[发明专利]成膜装置

说明书

本发明提供一种能够抑制对准精度降低的成膜装置。本发明的成膜装置包括：容器；容器支承体，其设置于所述容器的外部，支承所述容器的至少一部分；基板支架，其设置于所述容器内，保持基板；掩模支架，其设置于所述容器内，支承掩模；基板支架驱动机构，其驱动所述基板支架；掩模支架驱动机构，其驱动所述掩模支架；以及振动传递抑制构件，其设置于所述容器支承体与所述基板支架驱动机构之间以及所述容器支承体与所述掩模支架驱动机构之间中的至少一方。

技术领域

本发明涉及一种用于经由掩模将规定的成膜材料蒸镀到基板上的成膜装置。

背景技术

有机EL显示装置(有机EL显示器)的应用领域不仅为智能手机、电视机、汽车用显示器，还扩展到VR HMD(Virtual Reality Head Mount Display)等，特别是，VR HMD所使用的显示器为了降低用户的目眩等而要求以高精度形成像素图案。即，要求进一步的高分辨率化。

在这样的有机EL显示装置的制造中，在形成构成有机EL显示装置的有机发光元件(有机EL元件；OLED)时，将从成膜装置的成膜源放出的成膜材料经由形成有像素图案的掩模在基板上成膜，从而形成有机物层、金属层。

在这样的成膜装置中，为了提高成膜精度，在成膜工序之前，检测基板与掩模的相对位置，在相对位置发生偏移的情况下，进行使基板和/或掩模相对移动来调整(对准)位置的工序。

因此，以往的成膜装置包括与基板支承单元和/或掩模台连结并驱动基板支承单元和/或掩模台的对准台机构。

以往，作为包括对准台机构的成膜装置，已知有如专利文献1所举出的成膜装置。在专利文献1中，采用了使载置对准台机构的支承板与成膜室的顶板分离的构造。由此，能够降低成膜室的变形、向成膜室传递的振动，抑制基板与掩模的位置偏移。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2012-33468号公报

发明内容

发明要解决的课题

然而，在专利文献1所公开的成膜装置中，在对基板或者掩模的对准台机构进行了驱动时，该驱动时的振动传递到任一方的支承体，对准精度变差。另外，在进行高精度的对准时需要提高对准台机构的可控制的频带，但驱动时的振动成为干扰，控制性能降低，结果，对准精度降低。

本发明是鉴于上述现有技术所具有的课题而完成的，其目的在于提供一种能够抑制对准精度降低的成膜装置。

用于解决课题的手段

本发明的一技术方案的成膜装置包括：容器；容器支承体，其设置于所述容器的外部，支承所述容器的至少一部分；基板支架，其设置于所述容器内，保持基板；掩模支架，其设置于所述容器内，支承掩模；基板支架驱动机构，其驱动所述基板支架；掩模支架驱动机构，其驱动所述掩模支架；以及振动传递抑制构件，其设置于所述容器支承体与所述基板支架驱动机构之间以及所述容器支承体与所述掩模支架驱动机构之间中的至少一方。

发明的效果

根据本发明，能够抑制对准精度降低。

附图说明

图1是示意性地表示电子器件的制造装置的一部分结构的俯视图。

图2是表示本发明的成膜装置的结构的示意图。

图3是表示本发明的第1实施方式的振动传递抑制的结构的示意图。

图4是表示本发明的第2实施方式的振动传递抑制的结构的示意图。

附图标记说明