[发明专利]一种防水光学薄膜及制作方法

权利要求书

1.一种防水光学薄膜，布置在基板表面，其特征在于：包括自所述基板的向外远离方向依次布置的包含铝、氧的第一膜层、包含硅、氧的第二膜层以及包含铝、氧的第三膜层，其中所述第三膜层的折射率自所述基板的向外远离方向上总体是减小的。

2.根据权利要求1所述的一种防水光学薄膜，其特征在于：所述第一膜层是指氧化铝膜层。

3.根据权利要求1所述的一种防水光学薄膜，其特征在于：所述第二膜层是指氧化硅膜层。

4.根据权利要求1所述的一种防水光学薄膜，其特征在于：所述第三膜层是指氧化铝膜层。

5.根据权利要求1所述的一种防水光学薄膜，其特征在于：在所述第一膜层和所述第二膜层之间设置有包含氧化钛的膜层。

6.一种涉及权利要求1-5所述的防水光学薄膜的制作方法，其特征在于：所述制作方法包括如下步骤：

利用原子层沉积方法在基板上制作第一膜层；

利用等离子体增强原子层沉积方法在所述基板上制作第二膜层；

制作所述第三膜层的步骤包括利用原子层沉积方法在所述基板上制作第三膜层的前置膜层，以及将所述前置膜层制作成所述第三膜层。

7.根据权利要求6所述的一种防水光学薄膜的制作方法，其特征在于：制备所述第三膜层时，在利用所述原子层沉积方法后，使经所述原子层沉积方法所沉积制备的第三膜层的所述前置膜层与H₂O分子接触。

8.根据权利要求7所述的一种防水光学薄膜的制作方法，其特征在于：对经与H₂O分子接触后的所述第三膜层的所述前置膜层进行干燥处理，以使其折射率自述基板的向外远离方向上总体是减小的。