[发明专利]发热体的制造方法

权利要求书

1.一种发热体的制造方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供光敏玻璃基板，所述光敏玻璃基板上具有多个待成孔部分；

对所述光敏玻璃基板上的待成孔部分进行曝光处理；

对所述光敏玻璃基板在500℃-600℃下进行高温回火处理；

提供蚀刻液进行蚀刻处理，去除所述待成孔部分，以形成多个具有毛细作用力的纵长形通孔，所述通孔贯穿所述光敏玻璃基板；

在所述光敏玻璃基板的表面上设置发热层。

2.根据权利要求1所述的发热体的制造方法，其特征在于，所述曝光处理包括：

提供光源及掩模板，所述掩模板的透光区域的形状与所述待成孔部分相适配；所述光源透过所述掩模板照射所述待成孔部分；或者

提供激光束，所述激光束照射所述待成孔部分。

3.根据权利要求2所述的发热体的制造方法，其特征在于，在步骤“提供光源及掩模板，所述掩模板的透光区域的形状与所述待成孔部分相适配”中，提供波长在290nm-360nm波段的紫外光光源。

4.根据权利要求2所述的发热体的制造方法，其特征在于，

所述待成孔部分的轴线垂直或倾斜于所述光敏玻璃基板的表面，当提供光源及掩模板进行曝光处理时，提供发射方向平行于所述待成孔部分的轴线的面光源；或者

所述待成孔部分的轴线垂直或倾斜于所述光敏玻璃基板的表面，当提供激光束进行曝光处理时，提供发射方向平行于所述待成孔部分的轴线的激光束。

5.根据权利要求1所述的发热体的制造方法，其特征在于，所述待成孔部分的曝光时间和/或曝光强度由所述待成孔部分的轴线指向边缘的方向梯度变化。

6.根据权利要求1所述的发热体的制造方法，其特征在于，在步骤“提供光敏玻璃基板，所述光敏玻璃基板上具有多个待成孔部分”中，提供包括掺杂银、铈元素的锂铝-硅酸盐玻璃。

7.根据权利要求6所述的发热体的制造方法，其特征在于，所述高温回火处理包括：

第一次加热，对所述光敏玻璃基板进行500℃加热，持续时间为30分钟-2小时；

第二次加热，对所述光敏玻璃基板进行600℃加热，持续时间为30分钟-2小时。

8.根据权利要求1所述的发热体的制造方法，其特征在于，在所述光敏玻璃基板的表面上设置发热层包括：

在所述光敏玻璃基板的表面上通过物理气相沉积、化学气相沉积、化学镀、电镀或印刷-烧结的方式形成所述发热层。

9.根据权利要求1所述的发热体的制造方法，其特征在于，在步骤“在所述光敏玻璃基板的表面上设置发热层”中，形成材料包括银、铂、金、钯、镍、铬、钌、钼的其中一种或多种的任意组合的发热层；或者

在步骤“在所述光敏玻璃基板的表面上设置发热层”中，形成材料包括石墨烯、导电陶瓷或导电高分子的发热层。

10.根据权利要求1所述的发热体的制造方法，其特征在于，

在步骤“在所述光敏玻璃基板的表面上设置发热层”中，形成于所述光敏玻璃基板的表面呈面状延伸的发热层；或者

在步骤“在所述光敏玻璃基板的表面上设置发热层”中，形成于所述光敏玻璃基板的表面呈一连续的线状延伸的发热层；或者

在步骤“在所述光敏玻璃基板的表面上设置发热层”中，形成于所述光敏玻璃基板的表面呈多条并联的线状延伸的发热层。

11.根据权利要求1所述的发热体的制造方法，其特征在于，在所述光敏玻璃基板的表面上设置发热层之后，所述发热体的制造方法还包括：

在所述光敏玻璃基板的表面上设置电极，所述电极位于所述发热层的两端，所述电极与所述发热层电性连接。