[发明专利]靶材溅射镀膜腔体及提高镀膜腔体洁净程度的方法在审
申请号: | 202011270174.1 | 申请日: | 2020-11-13 |
公开(公告)号: | CN112501564A | 公开(公告)日: | 2021-03-16 |
发明(设计)人: | 杨海成 | 申请(专利权)人: | 东莞耀捷镀膜科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/56 |
代理公司: | 深圳市兴科达知识产权代理有限公司 44260 | 代理人: | 方玉叶 |
地址: | 523000 广东省东莞市*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 溅射 镀膜 提高 洁净 程度 方法 | ||
1.靶材溅射镀膜腔体,包括密封箱体,其特征在于:密封箱体内设置有负压空间,负压空间内设置有镀膜腔,镀膜腔用于放置靶材和沉积基底,所述密封箱体的内壁设置有承接清洁装置,承接清洁装置包括承接输送带、靶材刮除装置和两个滚轮,两个滚轮可转动的安装于密封箱体的内部,承接输送带的两端分别包绕于两个滚轮;承接输送带用于承接飞向密封箱体内壁的粒子;靶材刮除装置包括负压吸拾嘴和刮刀,刮刀安装于吸拾嘴的嘴口,刮刀贴于承接输送带的表面,负压吸拾嘴用于吸拾刮刀从承接输送带刮除的物质;还包括驱动滚轮转动的动力装置。
2.根据权利要求1所述的靶材溅射镀膜腔体,其特征在于:所述动力装置包括传动轴和电动机,电动机布置于密封箱体的外部,电动机通过传动轴驱动滚轮转动。
3.根据权利要求1所述的靶材溅射镀膜腔体,其特征在于:所述承接输送置于镀膜腔的一侧。
4.根据权利要求3所述的靶材溅射镀膜腔体,其特征在于:所述靶材刮除装置布置于镀膜腔的外部。
5.根据权利要求4所述的靶材溅射镀膜腔体,其特征在于:所述靶材刮除装置布置于承接输送带输送方向的一侧。
6.根据权利要求1所述的靶材溅射镀膜腔体,其特征在于:还包括抽真空装置,抽真空装置用于降低负压空间和负压吸拾嘴抽的气压。
7.根据权利要求1~6中任意一项所述的靶材溅射镀膜腔体,其特征在于:所述承接输送带为钨钢材质的承接输送带。
8.根据权利要求1所述的靶材溅射镀膜腔体,其特征在于:所述滚轮的轴向与水平面垂直。
9.提高镀膜腔洁净程度的方法,其特征在于:使用权利要求1-8中任意一项所述的靶材溅射镀膜腔体,在镀膜作业时,飞向密封箱体内壁的粒子被承接输送带承接,动力装置通过滚轮驱动承接输送带转动,使得承接输送带表面的物质被刮刀刮除后被负压吸拾嘴吸取,从而避免承接输送带表面成膜脱落。
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