[发明专利]离子注入薄膜晶圆剥离方法、单晶薄膜及电子元器件在审
申请号: | 202011271851.1 | 申请日: | 2020-11-13 |
公开(公告)号: | CN112382563A | 公开(公告)日: | 2021-02-19 |
发明(设计)人: | 刘桂银;张秀全;刘阿龙;连坤 | 申请(专利权)人: | 济南晶正电子科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/265 | 分类号: | H01L21/265;H01L21/02 |
代理公司: | 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 | 代理人: | 逯长明;许伟群 |
地址: | 250100 山东省济南市高新区港*** | 国省代码: | 山东;37 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 离子 注入 薄膜 剥离 方法 电子元器件 | ||
1.一种离子注入薄膜晶圆剥离方法,其特征在于,包括:
准备衬底晶圆;
准备离子注入后的薄膜晶圆,其中离子注入后的薄膜晶圆为具有薄膜层、分离层和余质层的薄膜晶圆;
将所述薄膜晶圆的薄膜层与所述衬底晶圆键合,形成键合体;
对键合体采用逐步加热的方式,实现薄膜层与余质层的逐步分离。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,对键合体采用逐步加热的方式,实现薄膜层与余质层的逐步分离,包括:
加热键合体中的起始区域;
在所述起始区域被加热至余质层与薄膜层分离后,将所述键合体中的未加热区域逐一加热至余质层与薄膜层分离。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,加热键合体中的起始区域包括:利用加热装置加热键合体中的起始区域。
4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,将所述键合体中的未加热区域逐一加热至余质层与薄膜层分离,包括:控制加热装置与键合体相对运动,将所述键合体中的未加热区域逐一加热至余质层与薄膜层分离。
5.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,将所述键合体中的未加热区域逐一加热至余质层与薄膜层分离,包括:
单向移动所述加热装置,将所述键合体中的未加热区域逐一加热至余质层与薄膜层分离;
或者,单向移动所述键合体,将所述键合体中的未加热区域逐一加热至余质层与薄膜层分离。
6.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,将所述键合体中的未加热区域逐一加热至余质层与薄膜层分离,包括:
所述加热装置为2个,将两个加热装置向相反方向移动,由键合体中心向键合体边缘移动,将所述键合体中的未加热区域逐一加热至余质层与薄膜层分离;其中,在所述起始区域时,两个加热装置放置在键合体的中心;
或者,所述加热装置为2个,将两个加热装置向相反方向移动,由键合体边缘向键合体中心移动,将所述键合体中的未加热区域逐一加热至余质层与薄膜层分离;其中,在所述起始区域时,两个加热装置分别放置在键合体两边边缘。
7.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,将所述键合体中的未加热区域逐一加热至余质层与薄膜层分离,包括:
加热装置以垂直于键合体中心的轴旋转,将所述键合体中的未加热区域逐一加热至余质层与薄膜层分离。
8.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,将所述键合体中的未加热区域逐一加热至余质层与薄膜层分离,包括:
将所述加热装置以S型移动,将所述键合体中的未加热区域逐一加热至余质层与薄膜层分离。
9.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,将所述键合体中的未加热区域逐一加热至余质层与薄膜层分离,包括:
以加热装置中心为固定点旋转,加热装置末端将所述键合体中的未加热区域逐一加热至余质层与薄膜层分离,其中,在所述起始区域时,所述加热装置的中心与键合体中心重合放置,所述加热装置的长度大于或等于所述键合体的直径。
10.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,将所述键合体中的未加热区域逐一加热至余质层与薄膜层分离,包括:
所述加热装置由键合体边缘以圆环的方式向键合体中心移动,将所述键合体中的未加热区域逐一加热至余质层与薄膜层分离,其中,在所述起始区域时,所述加热装置放置在键合体边缘;
或者,所述加热装置由键合体中心以圆环的方式向键合体边缘移动,将所述键合体中的未加热区域逐一加热至余质层与薄膜层分离,其中,在所述起始区域时,所述加热装置放置在键合体中心。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于济南晶正电子科技有限公司,未经济南晶正电子科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202011271851.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造