[发明专利]一种自洁镀膜玻璃及镀膜方法在审
| 申请号： | 202011272365.1 | 申请日： | 2020-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN112358197A | 公开（公告）日： | 2021-02-12 |
| 发明（设计）人： | 范少峰;田力;孙大海;曹宇 | 申请（专利权）人： | 天津耀皮玻璃有限公司;上海耀皮玻璃集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C03C17/34 | 分类号： | C03C17/34;C03C1/04;C03B18/02 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 巩克栋 |
| 地址： | 300450 天津市滨*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 镀膜 玻璃 方法 | ||
1.一种自洁镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜玻璃由玻璃基板和镀膜层构成，所述玻璃基板包括着色玻璃基板，所述镀膜层包括离子阻挡层和功能层，自玻璃基板表面向外依次为离子阻挡层和功能层。
2.根据权利要求1所述的自洁镀膜玻璃，其特征在于，所述着色玻璃基板包括黑玻基板；
优选地，所述黑玻基板的着色剂的组成包括过渡金属氧化物和非金属单质；
优选地，所述过渡金属氧化物包括Fe2O3、CoO和NiO；
优选地，所述非金属单质包括Se。
3.根据权利要求1或2所述的自洁镀膜玻璃，其特征在于，所述离子阻挡层包括二氧化硅层；
优选地，所述功能层为光催化膜层；
优选地，所述光催化膜层包括二氧化钛层；
优选地，所述镀膜层位于玻璃基板的外表面。
4.根据权利要求1-3任一项所述的自洁镀膜玻璃，其特征在于，所述镀膜玻璃的厚度为2～12mm；
优选地，所述镀膜层中离子阻挡层的厚度为20～40nm；
优选地，所述镀膜层中功能层的厚度为10～30nm。
5.根据权利要求1-4任一项所述的自洁镀膜玻璃的镀膜方法，其特征在于，所述镀膜方法包括以下步骤：
在着色玻璃基板从上游向下游移动过程中，在着色玻璃基板表面进行在线沉积镀膜；
其中，在着色玻璃基板上方沿着色玻璃基板移动方向依次设有离子阻挡层镀膜器和功能层镀膜器。
6.根据权利要求5所述的镀膜方法，其特征在于，所述在线沉积镀膜在浮法锡槽中进行；
优选地，所述着色玻璃基板的移动速率为200～1200m/h；
优选地，所述浮法锡槽中进行在线沉积镀膜的区域为锡槽窄端。
7.根据权利要求5或6所述的镀膜方法，其特征在于，所述着色玻璃基板的在线沉积镀膜采用化学气相沉积法；
优选地，所述着色玻璃基板的在线沉积镀膜的温度为630～720℃；
优选地，所述离子阻挡层镀膜器和功能层镀膜器并排设置于浮法锡槽窄端；
优选地，所述离子阻挡层镀膜器的数量至少为一个，优选为两个；
优选地，所述功能层镀膜器的数量至少为一个，优选为一个。
8.根据权利要求5-7任一项所述的镀膜方法，其特征在于，所述离子阻挡层镀膜器的工艺气体包括承载气体、氧气、乙烯和含硅气体；
优选地，所述承载气体包括惰性气体和/或氮气；
优选地，所述含硅气体包括硅烷。
9.根据权利要求5-8任一项所述的镀膜方法，其特征在于，所述功能层镀膜器的的工艺气体分为两部分，其中一部分的组成包括承载气体和乙酸乙酯，另一部分的组成包括承载气体和含钛化合物；
优选地，所述承载气体包括惰性气体和/或氮气；
优选地，所述含钛化合物包括四氯化钛。
10.根据权利要求5-9任一项所述的镀膜方法，其特征在于，所述镀膜方法包括以下步骤：
所述着色玻璃基板在浮法锡槽中从上游向下游移动过程中，在着色玻璃基板表面进行在线沉积镀膜，所述着色玻璃基板的移动速率为200～1200m/h；所述在线沉积镀膜采用化学气相沉积法，在线沉积镀膜温度为630～720℃；
其中，在着色玻璃基板上方沿着色玻璃基板移动方向依次设有离子阻挡层镀膜器和功能层镀膜器，所述离子阻挡层镀膜器和功能层镀膜器并排设置于浮法锡槽窄端，所述离子阻挡层镀膜器和功能层镀膜器的数量独立地至少为一个，所述离子阻挡层镀膜器的工艺气体包括承载气体、氧气、乙烯和含硅气体，所述功能层镀膜器的的工艺气体分为两部分，其中一部分的组成包括承载气体和乙酸乙酯，另一部分的组成包括承载气体和含钛化合物。
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