[发明专利]控制系统、控制方法、控制程序和处理系统在审
申请号: | 202011277266.2 | 申请日: | 2020-11-16 |
公开(公告)号: | CN112947061A | 公开(公告)日: | 2021-06-11 |
发明(设计)人: | 樋口龙太 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | G05B13/04 | 分类号: | G05B13/04;G05B15/02;H01J37/32;C23C16/505;C23C16/02 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 龙淳 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 控制系统 控制 方法 控制程序 处理 系统 | ||
本发明的课题在于:稳定地控制处理装置内的状态。解决课题的方法在于:控制系统具有决定部、模拟部、第一控制信号生成部、第二控制信号生成部、第一调整部和第二调整部。决定部基于方案决定模型和控制算法。模拟部利用模型模拟处理装置的状态。第一控制信号生成部利用控制算法由测定值生成控制信号,将所生成的控制信号输入给处理装置。第二控制信号生成部利用控制算法由模拟部的输出值生成控制信号,将所生成的控制信号输入给模拟部。第一调整部基于测定值和输出值调整模型所含的模型参数的值。第二调整部利用包含调整后的模型参数的值的模型调整控制算法所含的控制参数的值。
技术领域
本发明的各方面和实施方式涉及控制系统、控制方法、控制程序和处理系统。
背景技术
在利用等离子体对基板进行蚀刻等处理的处理装置中,要求在处理装置内将等离子体稳定点火。在处理装置内生成等离子体的过程中,等离子体的阻抗时刻发生变化,对应各个时刻,设置于等离子体与电力供给源之间的匹配电路的最适常数的值不同。关于使得用于使等离子体稳定点火的匹配电路的常数发生变化的方法,例如通过反复实验等进行决定。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2019-71270号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题
本发明提供能够稳定地控制处理装置内的状态的控制系统、控制方法、控制程序和处理系统。
用于解决技术问题的技术方案
本发明的一个方面涉及一种控制系统,其具有决定部、模拟部、第一控制信号生成部、第二控制信号生成部、第一调整部和第二调整部。决定部基于记载有对基板进行处理时的条件的方案,决定与对基板进行处理的处理装置对应的模型和控制算法。控制算法是基于由设置于处理装置的测定器测得的测定值生成控制信号的算法,上述控制信号用于控制处理装置,使得处理装置的状态成为预定的状态。模拟部利用模型模拟处理装置的状态。第一控制信号生成部利用由决定部决定的控制算法,基于测定值生成控制信号,将所生成的控制信号输入给处理装置。第二控制信号生成部利用由决定部决定的控制算法,基于与测定值对应的模拟部的输出值生成控制信号,将所生成的控制信号输入给模拟部。第一调整部调整模型所含的模型参数的值,使得测定值与模拟部的输出值的差变小。第二调整部调整第二控制信号生成部所使用的控制算法所含的控制参数的值,使得对于使用了包含调整后的模型参数的值的模型的模拟部的输出值算出的评价值接近目标值。另外,第一控制信号生成部利用被第二调整部调整后的控制参数的值,基于测定值生成控制信号。
发明效果
利用本发明的各方面和实施方式,能够稳定地控制处理装置内的状态。
附图说明
图1是表示本发明的一个实施方式的处理系统的一个例子的图。
图2是表示第一实施方式的控制系统的一个例子的图。
图3是表示第一实施方式的控制表的一个例子的图。
图4是表示模型的一个例子的图。
图5是表示控制系统的处理的一个例子的流程图。
图6是表示实现控制系统的功能的计算机的一个例子的图。
图7是表示第二实施方式的控制表的一个例子的图。
图8是表示第二实施方式的控制表的一个例子的图。
图9是表示历史记录表的一个例子的图。
图10是用于对控制参数的初始值的推定方法的一个例子进行说明的图。
图11是表示第四实施方式的控制系统的一个例子的图。
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