[发明专利]用于倾斜装置设计的计量目标设计

权利要求书

1.一种计量目标，其包括：

第一组单元，其具有沿着测量方向分布的样本的第一层中的第一组两个以上周期性特征；以及

第二组单元，其具有沿着所述测量方向分布的所述样本的第二层中的所述两个以上周期性特征，所述第一组单元或所述第二组单元的任意一者中的所述两个以上周期性特征的特定周期性特性包括：

倾斜分割区域，其由边界分段沿着所述测量方向包围，其中所述倾斜分割区域包含沿着倾斜角以倾斜分割间距分布的两个以上倾斜分割特征，其中所述倾斜角对应于所述样本的相应层中的倾斜装置特征的倾斜角，其中所述倾斜分割间距经选择以根据泽尼克多项式分析而将所述相应层中的所述两个以上周期性特征的图案放置误差与所述相应层中的所述倾斜装置特征的图案放置误差匹配，其中沿着所述测量方向所述第一组单元相对于所述第二组单元的位置的测量指示沿着所述测量方向的叠加。

2.根据权利要求1所述的计量目标，其中所述第一组单元以及所述第二组单元为旋转对称的高级成像计量AIM单元。

3.根据权利要求1所述的计量目标，其中所述两个以上周期性特征的所述倾斜分割间距等于所述相应层中的所述倾斜装置特征的倾斜分割间距。

4.根据权利要求1所述的计量目标，其中所述两个以上周期性特征的所述倾斜分割间距比所述相应层中的所述倾斜装置特征的倾斜分割间距大10到30％。

5.根据权利要求1所述的计量目标，其中所述第一组单元中的所述两个以上周期性特征的所述倾斜分割间距等于所述第二组单元中的所述两个以上周期性特征的所述倾斜分割间距。

6.根据权利要求1所述的计量目标，其中所述第一组单元中的所述两个以上周期性特征的所述倾斜分割间距不同于所述第二组单元中的所述两个以上周期性特征的所述倾斜分割间距。

7.根据权利要求1所述的计量目标，其中所述第一组单元中的两个以上周期性特征的所述倾斜分割区域的所述倾斜角等于所述第二组单元中的两个以上周期性特征的所述倾斜分割区域的所述倾斜角。

8.根据权利要求1所述的计量目标，其中所述第一组单元中的两个以上周期性特征的所述倾斜分割区域的所述倾斜角不同于所述第二组单元中的两个以上周期性特征的所述倾斜分割区域的所述倾斜角。

9.根据权利要求1所述的计量目标，其中所述边界分段进一步经分割以包含光学接近校正OPC特征。

10.根据权利要求1所述的计量目标，其中所述OPC特征包括：

次分辨率辅助特征。

11.根据权利要求10所述的计量目标，其中所述SRAF特征的大小、分割或倾斜角中的至少一者经选择以根据泽尼克多项式分析而将所述相应层中的所述两个以上周期性特征的所述图案放置误差与所述相应层中的所述倾斜装置特征的所述图案放置误差匹配。

12.根据权利要求1所述的计量目标，其中所述泽尼克多项式分析包括：

模拟所述计量目标的初始目标设计以及所述倾斜装置的设计的零阶及一阶衍射信号的光瞳平面位置；以及

修改所述初始目标设计的至少一个参数以产生经改进目标设计，实施所述修改以提供对应于其在所述装置设计中的关系的经改进目标中的零阶及一阶衍射信号的所述光瞳平面位置之间的关系。

13.根据权利要求12所述的计量目标，其中所述至少一个泽尼克多项式相对于所述初始目标的分割方向不对称。