[发明专利]壳体及其制作方法、电子设备有效

专利信息
申请号: 202011278928.8 申请日: 2020-11-16
公开(公告)号: CN112788888B 公开(公告)日: 2023-04-14
发明(设计)人: 赵岩峰 申请(专利权)人: OPPO(重庆)智能科技有限公司
主分类号: H05K5/02 分类号: H05K5/02;B32B3/08;B32B3/24;B32B27/40;B32B7/12;B32B17/06;B32B27/36;B32B27/30;B32B27/06;B32B9/00;B32B9/04;B32B5/02;B32B27/02;B32B27/12
代理公司: 深圳市威世博知识产权代理事务所(普通合伙) 44280 代理人: 唐双
地址: 401120 重庆*** 国省代码: 重庆;50
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摘要:
搜索关键词: 壳体 及其 制作方法 电子设备
【权利要求书】:

1.一种壳体,其特征在于,所述壳体包括:

皮革基体,定义有凹陷空间,所述凹陷空间通过对所述皮革基体进行压印形成,包括:

基层;

皮革层,层叠设置于所述基层的一侧;

贴合层,设置于所述基层及所述皮革层之间,用于将所述皮革层与所述基层贴合在一起;

清洁层,层叠设置于所述皮革层上,并定义有贯穿的嵌入孔与所述凹陷空间对应且联通;

标识件,形状与所述嵌入孔匹配,并嵌置于所述嵌入孔和所述凹陷空间内且与所述皮革层连接在一起,所述标识件的厚度大于所述嵌入孔的深度。

2.根据权利要求1所述的壳体,其特征在于,所述皮革基体定义有凹陷空间,所述凹陷空间与所述嵌入孔对应且连通,并共同构成容置空间,所述标识件嵌置于所述容置空间内,并与所述皮革基体连接在一起。

3.根据权利要求2所述的壳体,其特征在于,还包括:

粘结层,设置于所述容置空间内,并位于所述皮革基体与所述标识件之间,用于将所述皮革基体与所述标识件粘接在一起,所述粘结层的厚度为0.04-0.06mm。

4.根据权利要求3所述的壳体,其特征在于,所述清洁层的材质为有机硅改性聚氨酯,厚度为0.01-0.03mm。

5.根据权利要求3所述的壳体,其特征在于,所述标识件的朝向所述粘结层的一侧设置有粗糙面,所述粗糙面通过所述粘结层与所述皮革基体粘接在一起。

6.根据权利要求1所述的壳体,其特征在于,所述标识件与所述皮革基体之间的粘合力大于50N。

7.根据权利要求1所述的壳体,其特征在于,所述标识件的周向尺寸小于所述嵌入孔的周向尺寸,且所述标识件的周侧与所述嵌入孔的边缘之间的间隔距离为0.02-0.04mm,所述标识件的厚度为0.05-0.15mm。

8.根据权利要求1所述的壳体,其特征在于,所述皮革层包括:

载体,所述载体的材质为织物;

皮革附层,设置于所述载体与所述清洁层之间,并包括沿远离所述载体的方向依次设置的聚氨酯发泡层、聚氨酯连接层、聚氨酯颜色层。

9.一种壳体的制作方法,其特征在于,包括:

提供壳体基体,其中,所述壳体基体包括层叠设置的皮革基体及清洁层,所述皮革基体包括基层,皮革层和贴合层,其中,所述皮革层层叠设置于所述基层的一侧,所述贴合层设置于所述基层及所述皮革层之间,用于将所述皮革层与所述基层贴合在一起;

对所述壳体基体进行加工处理,以在所述清洁层上形成贯穿的嵌入孔,包括:

对所述壳体基体进行表面压印处理,以在所述清洁层一侧形成凹陷痕迹;

沿所述凹陷痕迹对所述清洁层进行激光镭雕处理,以去除部分清洁层而形成与所述凹陷痕迹对应的所述嵌入孔;

在所述嵌入孔中嵌设与所述嵌入孔形状匹配的标识件,以使得所述标识件与所述皮革层连接在一起,所述标识件的厚度大于所述嵌入孔的深度。

10.根据权利要求9所述的制作方法,其特征在于,所述压印处理的压印温度为190-210℃,保温时间为15-30s,所述凹陷痕迹的凹陷深度为0.15-0.2mm;

所述激光镭雕处理所利用的激光为红外光,镭雕速度为1600-1800mm/s,功率为额定功率的65%-70%,频率为20-30Hz,划线间隔0.06-0.12mm。

11.根据权利要求9所述的制作方法,其特征在于,还包括:

提供所述标识件,并在所述标识件的一侧形成粘结层;

在所述嵌入孔中嵌设与所述嵌入孔形状匹配的标识件,以使得所述标识件与所述皮革基体连接在一起的步骤,包括:

将所述标识件放置于所述嵌入孔内,并使得所述粘结层一侧朝向所述皮革基体,以通过所述粘结层将所述标识件与所述皮革基体粘接在一起。

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