[发明专利]化学机械研磨设备防碰撞侦测系统有效
申请号: | 202011280766.1 | 申请日: | 2020-11-16 |
公开(公告)号: | CN112405327B | 公开(公告)日: | 2022-07-15 |
发明(设计)人: | 李峰;刘宇龙 | 申请(专利权)人: | 吉姆西半导体科技(无锡)有限公司 |
主分类号: | B24B37/005 | 分类号: | B24B37/005;B24B37/04;B24B37/34;B24B49/04 |
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地址: | 214194 江苏省无锡*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 化学 机械 研磨 设备 碰撞 侦测 系统 | ||
1.化学机械研磨设备防碰撞侦测系统,其特征在于:包括支撑单元(1)和打磨单元(2);所述支撑单元(1)包括转轴(11)、转盘(12)和研磨垫(13);所述转轴(11)通过一端外接马达驱动转动,转轴(11)的另一端固接在转盘(12)的一端面中间位置;所述转盘(12)的另一端面固接研磨垫(13)的一表面,研磨垫(13)的另一表面承载有所要研磨的晶元体;所述支撑单元(1)的一侧打磨单元(2);
所述打磨单元(2)包括转动杆(21)、横杆(22)、电机(23)和研磨头(24);所述转动杆(21)的一端通过外接马达驱动转动,转动杆(21)的另一端固接横杆(22)的一端,横杆(22)的另一端固接电机(23),电机(23)的输出轴端部固接研磨头(24),研磨头(24)的研磨端面伸向研磨垫(13);
所述电机(23)与研磨头(24)之间设有圆柱形状的基板(25);所述基板(25)的上端面固接在电机(23)的下端面,基板(25)的中间位置开设通孔(251),通孔(251)的内圈间隙配合电机(23)的输出轴外圈,基板(25)的下端面与研磨头(24)的上端面之间留有间隙,基板(25)的外圈上设有距离传感器(26),距离传感器(26)电性连接外界操控电脑;
所述基板(25)的外圈侧壁上开环形槽(27),环形槽(27)内设有多个连接板(271);每个所述连接板(271)的剖切面呈字母“T”形状,每个连接板(271)的竖直两端嵌在环形槽(27)内,每个连接板(271)的水平端上固接距离传感器(26),且距离传感器(26)的发射端指向外界的研磨垫用调节器;
每个所述连接板(271)的竖直端侧壁上设有弹簧(272);所述弹簧(272)的一端固接在连接板(271)的竖直端侧壁上,弹簧(272)的另一端贴附挤压在环形槽(27)的侧壁上;
所述环形槽(27)的槽口上开设通槽(273),通槽(273)的槽口长度和宽度与大于连接板(271)的竖直端长度和宽度。
2.根据权利要求1所述的化学机械研磨设备防碰撞侦测系统,其特征在于:所述横杆(22)的下方设有支撑杆(221)和滑轨(222);所述支撑杆(221)的一端固接在横杆(22)的中间位置,支撑杆(221)的另一端滑动连接在滑轨(222)内;所述滑轨(222)呈半圆环状,滑轨(222)的轴线与转动杆(21)的轴线同线。
3.根据权利要求2所述的化学机械研磨设备防碰撞侦测系统,其特征在于:所述支撑杆(221)的另一端开设凹槽,凹槽内设有滚珠(223);所述滚珠(223)滚动连接在凹槽内,滚珠(223)滚动连接在滑轨(222)内。
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