[发明专利]一种双层反应腔体结构在审
| 申请号： | 202011281050.3 | 申请日： | 2020-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN112382553A | 公开（公告）日： | 2021-02-19 |
| 发明（设计）人： | 林佳继;庞爱锁;刘群;张武 | 申请（专利权）人： | 拉普拉斯（无锡）半导体科技有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L31/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 214000 江苏省无锡*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 双层 反应 结构 | ||
1.一种双层反应腔体结构，其特征在于：包括内层腔体(1)及外层腔体(2)，所述内层腔体(1)与所述外层腔体(2)同轴设置，并且长度相等，所述内层腔体(1)位于所述外层腔体(2)内侧，所述外层腔体(2)长度方向两端分别设置有炉口法兰(3)及炉尾法兰(4)，用于固定所述内层腔体(1)及外层腔体(2)。
2.根据权利要求1所述的一种双层反应腔体结构，其特征在于：所述炉口法兰(3)包括炉口内法兰(31)及炉口外法兰(32)，所述炉口内法兰(31)与所述炉口外法兰(32)之间设置有第一密封圈(33)，其中所述炉口外法兰(32)位于所述外层腔体(2)端部，所述炉口内法兰(31)位于所述炉口外法兰(32)指向所述外层腔体(2)一侧侧面，所述炉口内法兰(31)用于将所述外层腔体(2)固定在所述机架上，并且所述炉口内法兰(31)靠近所述第一密封圈(33)一侧设置有冷却水管路(311)。
3.根据权利要求2所述的一种双层反应腔体结构，其特征在于：所述炉口外法兰(32)上设置有缓冲块(321)，所述缓冲块(321)位于所述炉口外法兰(32)与所述外层腔体(2)之间。
4.根据权利要求3所述的一种双层反应腔体结构，其特征在于：所述炉口外法兰(32)与所述内层腔体(1)之间还设置有第二密封圈(322)，所述第二密封腔用于减少内层腔体(1)与外层腔体(2)之间的气体流通。
5.根据权利要求4所述的一种双层反应腔体结构，其特征在于：所述炉尾法兰(4)外周连接有炉尾盖(5)，所述炉尾法兰(4)用于连接所述炉尾盖(5)及所述内层腔体(1)，所述内层腔体(1)指向所述炉尾法兰(4)一端设置有隔热板(11)。
6.根据权利要求5所述的一种双层反应腔体结构，其特征在于：所述内层腔体(1)内设置有支撑环(12)，所述支撑环(12)固定设置在所述炉尾法兰(4)指向所述内层腔体(1)一侧。
7.根据权利要求6所述的一种双层反应腔体结构，其特征在于：所述炉尾盖(5)上设置有氮气管道(51)，所述氮气管道(51)用于对所述外层腔体(2)及所述内层腔体(1)中间通入氮气。
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